非平衡磁控溅射和其应用1.pdfVIP

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2017-09-12 发布于北京
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非平衡磁控溅射和其应用1.pdf

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维普资讯期真空科学与技术 VACUUM SCIENCEAND lJ：IcH f ! ! 非平衡磁控溅射及其应用一第 (北京长城钛金技术联合开发公司北京 (清华大学材料系兰等北吊100084 北京长城钛金技术司北京 100080) 清华大学 j 7 1994年12月6日收到 UNBALANCEDi~IAGNETRONSPUTTERINGAND lTSAPPLlCAT10NS 阡／．2 DongQi (B~ijlngGreat-~allTi—GoldCorpora~ n，Belting-lf~0080 Fan Yudian (DepartmentofMaterialsScience，TsingtluaUniversity，Beijing，100084) Abstract Magnetronsputteringhasbecome8widelyusedphysicalvapordepositiontechniqueduetDils outstandingfeatures．Whiel theparalle]magneticfieldon astandard magnetron targetstronglyrestrictsthe d~ctronsandintHrnionsnearbyfrom escaping towardssubstmtes，resultingin quitelow plasmadensityin coatingafea which makesthebenefit。{usingthemagnetronsputtering techniquelostt。㈣ e xtcnI By strengtheningorweakeningthemagneticfluxfrom onetothet％vooppositemagneticpolesinorderr[)eslab— lish an m~ha[aneedmagnetic [ield．onecouldgreatly enhancetheplasmadensityin thecoating areaandim provethepropertiesofdepositedfilms．Thispaperpresentsthedevelopmentand theprosperityofthistech nique， Keywords Unbalancedmagnetronsputtering，Cathodearc，Ionplating AI摘要磁控溅射镀膜技术由于其显著的特点已经得到广泛的应用