单层SiO2物理膜与化学膜激光损伤机理的对比研究.pdfVIP

第 卷第 期 年 月 物 理 学 报 2 %%$ 2 NO6/， ， ， MO/2 P5QR %%$ （ ） !%%%*2(% J %%$ J %2 J !%!*%$ 0CE0 KGL,BC0 ,BMBC0 !%%$ CR-@/ KRS=/ ,O/ 单层!#$ 物理膜与化学膜激光 损伤机理的对比研究! ）） ） ） ） ! ! # 陈习权 祖小涛 郑万国 蒋晓东 ） ） ） !） 吕海兵 任 寰 张艳珍 刘春明 !）（电子科技大学应用物理系，成都 $!%%’ ） ）（中物院激光聚变研究中心，绵阳 $!(%% ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） %% ) !% %% ) 采用离子束溅射沉积技术和溶胶 凝胶技术在 基片上镀制了厚度相近的 单层介质膜，用表面热透镜技 * +( ,-. 术对两类膜层分别进行了热吸收及实时动态热畸变实验测试，结合散射光阈值测试及实验前后膜层的显微观测， 对相同基底、相同膜层材料而采用不同方法镀制的光学膜层，发现化学膜的强激光损伤阈值远高于相应物理膜；从 热力学响应及膜层特性差异的角度揭示了化学膜层的强激光损伤阈值远高于相应物理膜层的微观机理，即物理膜 具有高吸收下的致密膜层快传导的基底热冲击效应，而化学膜则有低吸收下的疏松空隙填充慢传导的延缓效应， 大量的实验数据及现象都证实了这一结论/ 关键词：强激光辐照损伤，损伤形貌，热冲击，热吸收 ： ， ， %’’ ’$0 ’1 $!)% 学响应及膜层特性差异的角度探讨了化学膜层损伤 !A 引 言 阈值远高于相应的物理膜层的微观机理/ 高功率激光系统中各器件的光学薄膜是抗激光 A 实 验 损伤的一个薄弱环节，也是影响激光装置运行通量 提高的主要因素 实践中人们发现，传统的物理方法 / $()* 样品的制备 较难镀制全面满足惯性约束核聚变（BCD ）工程所需 求的大口径光学元件膜层，原因主要是表面缺陷多， 实验中测试的,-. 物理膜样品采用传统的离 抗激光损伤阈值不高；而溶胶 凝胶化学镀膜法所镀 * 子束溅射沉积技术镀制，由中物院一所提供，而,-. 制的膜层，内应力小，镀制口径大，最主要的是抗激 化学膜样品由八所本课题组采用溶胶 凝胶法自行