网站大量收购独家精品文档,联系QQ:2885784924

1 MOS场效应管.pdf

  1. 1、本文档共41页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
第三章 场效应晶体管及其放大电路 场效应晶体管是一种利用电场强度控制管导电特性的 半导体器件。 输入阻抗高 热稳定性好 与双极型晶体管相比较, 噪声小 目前的大规模集 场效应的 成电路大都由 抗辐射能力强 场效应管集成。 体积小、集成度高, 耗电少 绝缘栅场效应管 (IGFET) 根据结构和工作原理, 场效应管可分类为 : 结型场效应管 (JFET) 1 大功率场效应管,如VDMOS管, IGBT管 3.1 MOS 场效应管(绝缘栅场效应管) 以N沟道增强型MOS管为例 结构特点: 源极 栅极 漏极 S G D 在一种类型的半导体衬底上 光刻扩散出两个高掺杂的另 铝 一类型的区域作为 源极S 和漏极D , SiO 绝缘层 2 在源漏极之间的衬底上生成 一二氧化硅绝缘层,再在其 上蒸发出一层金属铝作为 栅极G 。 + + 衬底 N N 耗尽 L 层 W 符号: P 型衬底 沟道 由于栅极与衬底之 宽度 D 间有二氧化硅绝缘 层,故称绝缘栅场 效应管。又由于从 沟道 G B 栅极到衬底依次为 B 长度 金属(M)、氧化物 衬底极 (O)、半导体(S),故 S 又称为 MOS场效应管。 N沟道 增强型 MOS场效应管的结构示意 2 MOS技术的发展是集成电路 源极S 栅极G 漏极 快速发展的一个主要标志。 D

您可能关注的文档

文档评论(0)

0520 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档