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第三章 场效应晶体管及其放大电路
场效应晶体管是一种利用电场强度控制管导电特性的
半导体器件。
输入阻抗高
热稳定性好
与双极型晶体管相比较, 噪声小 目前的大规模集
场效应的 成电路大都由
抗辐射能力强 场效应管集成。
体积小、集成度高,
耗电少
绝缘栅场效应管 (IGFET)
根据结构和工作原理,
场效应管可分类为 : 结型场效应管 (JFET)
1
大功率场效应管,如VDMOS管, IGBT管
3.1 MOS 场效应管(绝缘栅场效应管) 以N沟道增强型MOS管为例
结构特点: 源极 栅极 漏极
S G D
在一种类型的半导体衬底上
光刻扩散出两个高掺杂的另 铝
一类型的区域作为
源极S 和漏极D , SiO 绝缘层
2
在源漏极之间的衬底上生成
一二氧化硅绝缘层,再在其
上蒸发出一层金属铝作为
栅极G 。
+ + 衬底
N N
耗尽
L
层 W 符号:
P 型衬底 沟道
由于栅极与衬底之 宽度 D
间有二氧化硅绝缘
层,故称绝缘栅场
效应管。又由于从 沟道 G B
栅极到衬底依次为 B 长度
金属(M)、氧化物 衬底极
(O)、半导体(S),故 S
又称为
MOS场效应管。 N沟道 增强型 MOS场效应管的结构示意 2
MOS技术的发展是集成电路 源极S 栅极G 漏极
快速发展的一个主要标志。 D
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