信息材料 Chapter 5 Optoelectronic Materials part2.ppt

各类液晶显示器所用液晶材料 DSN—动态散射； TN—扭曲向列型； STN—超扭曲向列型； DSTN—双层超扭曲向列型； FSTN—薄膜超扭曲向列型； AM—有源矩阵； TFT—薄膜晶体管 光子晶体 光子能隙 早在半个世纪前， 物理学家就已经知道，晶体 (如半导体)中的电子由于受到晶格的周期性位势(periodic potential)散射，部份波段会因破坏性干涉而形成能隙(energy gap)，导致电子的色散关系(dispersion relation)呈带状分布，此即众所周知的电子能带结构 (electronic band structures)。 简介 8.5.1 简介 直到公元1987年，E. Yablonovitch 及S. John才不约而同地指出，类似的现象也 存在于光子系统中：在介电系数呈周期性排列的三维介电材料中，电磁波经介电函数散射后，某些波段的电磁波强度会因破 坏性干涉而呈指数衰减，无法在系统内传递，相当于在频谱上形成能隙，于是色散关系也具有带状结构，此即所谓的光子能 带结构(photonic band structures)。 具有光子能带结构的介电物质，就称为光能隙系统(photonic band-gap system， 简称PBG系统)，或简称 光子晶体(photonic crystals)。 人造多层系统 人造多层系统 事实上，在三维光子能带结构的概念尚未问世前， 层状介电系统──即一维的光子晶格──已被研究多年，电磁波在该系统中的干涉 现象早已应用在各种光学实验中，做为波段选择器、滤波器或反射镜等。 例如光学中常见布拉格反射镜(Bragg reflector) ，乃是一种四分之一波长多层系统(quarter-wave-stack multi-layered system)， 说穿了就是简单的一维光子晶体。 尽管如此，这方面的研究却停留在一维系统的光学性质上，物理界一直未能以“晶格”的角度来看待周期性光学系统，也因此迟迟未将固态物理上已发展成熟的能带理论运用在 这方面。 一直到了1989年，Yablonovitch及Gmitter首次尝试在实验上证明三维光子能带结构的存在，该实验虽然功亏一 篑，但物理界已注意到其潜力，于是开始大举投入这方面的研究。 第一个具有绝对能隙的光子晶体 及其经过特别设计的制作方式 8.5.2 光子晶体的分类 光子晶体的分类 光子晶体是在一维、二维或三维架构上具有高度秩序排列的材料，一般所谓的光学多层膜即是一维架构的光子晶体，已被广泛地应用在光学镜片上。而具有二维或是三维高度秩序排列的结构则是目前在光子晶体领域中最受到重视的一环。 8.5.3 光子晶体的制造方法 光子晶体的制造方法 光蚀刻技术制造二维及三维光子晶体 利用光蚀刻技术制造二维光子晶体 利用光蚀刻技术不但可以精确地制造出高度次序排列的数组，更可利用光罩的设计来达成光波导的行径方向。 利用光蚀刻技术可成功的制造出二维光子晶体，比方在光子晶体结构中制造一瑕疵点，则会使得某些波长的光无法穿越此光子晶体而成为光子绝缘体，因而这些特定波长的光子将被限制在瑕疵点中，进而形成一高密度、高能量的共振场，则可制造出零临界电压的雷射发生器。 光蚀刻技术制造三维光子晶体 （ Science 289, 605, 2000） 自组装(Self-Assembly) 制造三维光子晶体 采用均一粒径的聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯或是二氧化硅纳米颗粒利用自然、离心、抽滤以及真空等方式将纳米颗粒制成模板，再于模板上添加无机氧烷单体使其进行溶胶凝胶反应，最后利用锻烧与萃取等方式将有机模板移除，可生成具有光学晶体性质之高度均一孔径之三维光子晶体 。 自组装光子晶体制造方式 自组装光子晶体 （ NATURE 414, 257 290,2001） 控制温度梯度以及浓度梯度所制成之三维光子晶体 电子束微影法 操作于红外光与可见光的光子晶体，其晶体之晶格大小约为波长的1/4到1/2，大约相当于200-500纳米。若要以人工的方式制作这样周期大小的光子晶体，一种方式是以成长或化学合成的技术，建构薄膜(Thinfilm)或纳米颗粒(Nanoparticles)；另一种方式是使用分辨率比传统微米级更高的深紫外线成像技术（Deep-UV Photolithography）。 除此之外，近年来各国积极发展的电子束微影（e-beam photolithography）法，是非常重要的纳米制程技术。目前大部分光子晶体的应用都需配合电子束显微法。 电子束微影的制作流程示意图 Raith 150型e-beam writer结构示意图 激光三维光刻术laser holographic lithography technolog