K9和Si100基片上Be薄膜微观组织晶粒尺寸及-中国有色金属学报.PDF

第 23 卷第 4 期 中国有色金属学报  2013 年 4 月  Vol.23 No.4  The Chinese Journal of Nonferrous Metals  Apr. 2013  文章编号：1004­0609(2013)04­1079­07  K9和 Si(100)基片上 Be 薄膜微观组织、晶粒尺寸及 表面粗糙度的演变规律 1,2  1, 2  1  1,2  1, 2  1  1,2  1,2  1  罗炳池  ，李 恺  ，李 佳  ，谭秀兰  ，周民杰  ，张吉强  ，罗江山  ，吴卫东  ，唐永建  (1.  中国工程物理研究院 激光聚变研究中心，绵阳  621900；  2.  等离子体物理重点实验室，绵阳  621900)  摘 要：采用真空蒸镀法分别在 K9 和 Si(100)基片上制备 Be 薄膜，在相同沉积速率下，K9 基片上 Be 薄膜生长 形态和 Si基片上 Be 薄膜生长形态存在差异。但是两者随沉积速率增加具有相似的演变规律，即由等轴晶变化至 纤维晶，再至粗大等轴晶。XRD 和 XPS 分析结果表明：不同基片和蒸发温度下制备的 Be 薄膜均主要由 HCP 结 构的 α­Be相组成，且表面存在一定氧化；对于非晶K9基片，Be薄膜晶粒取向较单一，(101)始终为显露晶面；而 单晶Si(100)基片上 Be 晶粒取向多样，在一定沉积速率下显露特定晶面；相同沉积时间下 K9和 Si(100)基体上生长 的 Be 薄膜粗糙度 R 变化趋势十分相似，两者随 Be 薄膜沉积速率(v)增加先急剧增大后趋于平缓；以细小等轴晶 q  生长的薄膜表面光洁度较高，而以纤维晶或粗大混晶生长的薄膜表面粗糙度较大。 关键词：Be薄膜；等轴晶；沉积速率；表面粗糙度 中图分类号：TB43；TG174.444  文献标志码：A  Evolution rule of microstructure, crystal grain size and  surface roughness for Be films grown on K9 and Si(100) substrates  1, 2  1,2  1  1,2  1,2  1  LUO Bing­chi  , LIKai  , LIJia , TAN Xiu­lan  , ZHOUMin­jie  , ZHANG Ji­qiang ,  1,2  1, 2  1  LUO Jiang­shan  , WUWei­dong  , TANGYong­jian  (1. Research Center of Laser Fusion, China Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China;