CH01 半导体器件.ppt

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CH01 半导体器件

1.1.2 掺杂半导体 1.1.2 掺杂半导体 1.1.3 PN结及其单向导电性形成 2.外加反向电压反向电压(反向偏置) 3. PN结的伏安(V-I)特性 1.2 半导体二极管 1.2.1 二极管的结构 1.2.2 二极管的伏安特性 1.2.3二极管的主要参数 二极管电路分析举例 1.2.4 稳压二极管 3. 主要参数 1.3 双极结型三极管 1.3.1三极管的基本结构 1. 3. 2三极管的电流放大原理 1. 三极管放大的外部条件 2. 各电极电流关系及电流放大作用 1.3.3三极管的特性曲线 1. 输入特性 2. 输出特性 1.3.4 主要参数 1. 电流放大系数,? 1.4.1 结型场效应管 1.4.2 绝缘栅场效应管 1.4.2 绝缘栅场效应管 3. 三极管内部载流子的运动规律 IC = ICE+ICBO ? ICE IC IB B E C N N P EB RB EC IE IBE ICE ICBO IB = IBE- ICBO ? IBE ICE 与 IBE 之比称为共发射极电流放大倍数 集-射极穿透电流, 温度??ICEO? (常用公式) 若IB =0, 则 IC? ICEO 即管子各电极电压与电流的关系曲线,是管子内部载流子运动的外部表现,反映了晶体管的性能,是分析放大电路的依据。 为什么要研究特性曲线: 1)直观地分析管子的工作状态 2)合理地选择偏置电路的参数,设计性能良好的电路 重点讨论应用最广泛的共发射极接法的特性曲线  发射极是输入回路、输出回路的公共端 共发射极电路 输入回路 输出回路 测量晶体管特性的实验线路 IC EB mA ?A V UCE UBE RB IB EC V + + – – – – + + 特点:非线性 死区电压:硅管0.5V,锗0.1V。 正常工作时发射结电压: NPN型硅管 UBE ? 0.6~0.7V PNP型锗管 UBE ? ?0.2 ~ ? 0.3V IB(?A) UBE(V) 20 40 60 80 0.4 0.8 UCE?1V O IB=0 20?A 40?A 60?A 80?A 100?A 3 6 IC(mA ) 1 2 3 4 UCE(V) 9 12 O 放大区 输出特性曲线通常分三个工作区: (1) 放大区 在放大区有 IC=? IB ,也称为线性区,具有恒流特性。 在放大区,发射结处于正向偏置、集电结处于反向偏置,晶体管工作于放大状态。 IB=0 20?A 40?A 60?A 80?A 100?A 3 6 IC(mA ) 1 2 3 4 UCE(V) 9 12 O (2)截止区 IB 0 以下区域为截止区,有 IC ? 0 。 在截止区发射结处于反向偏置,集电结处于反向偏置,晶体管工作于截止状态。 饱和区 截止区 (3)饱和区 当UCE? UBE时,晶体管工作于饱和状态。 在饱和区,?IB ?IC,发射结处于正向偏置,集电结也处于正偏。 深度饱和时, 硅管UCES ? 0.3V, 锗管UCES ? 0.1V。 直流电流放大系数 交流电流放大系数 当晶体管接成发射极电路时, 表示晶体管特性的数据称为晶体管的参数,晶体管的参数也是设计电路、选用晶体管的依据。 注意: 和? 的含义不同,但在特性曲线近于平行等距并且ICE0 较小的情况下,两者数值接近。 常用晶体管的? 值在20 ~ 200之间。 例:在UCE= 6 V时, 在 Q1 点IB=40?A, IC=1.5mA; 在 Q2 点IB=60 ?A, IC=2.3mA。 在以后的计算中,一般作近似处理:? = 。 IB=0 20?A 40?A 60?A 80?A 100?A 3 6 IC(mA ) 1 2 3 4 UCE(V) 9 12 0 Q1 Q2 在 Q1 点,有 由 Q1 和Q2点,得 2.集-基极反向截止电流 ICBO ICBO是由少数载流子的漂移运动所形成的电流,受温度的影响大。 温度??ICBO? ICBO ?A + – EC 3.集-射极反向截止电流(穿透电流)ICEO ?A ICEO IB=0 + – ICEO受温度的影响大。 温度??ICEO?,所以IC也相应增加。三极管的温度特性较差。 4. 集电极最大允许电流 ICM 5. 集-射极反向击穿电压U(BR)CEO 集电极电流 IC上升会导致三极管的?值的下降,当?值下降到正常值的三分之二时的集电极电流即为 ICM。 当集—射极之间的电压UCE 超过一定的数值时,三极管就会被击穿。手册上给出的数值是25

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