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多晶硅培训讲义.ppt

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多晶硅培训讲义

在多晶硅的生产过程中,主要的原料是工业硅、液氯、氢气。多晶硅的生产主要是通过将氢气和氯气反应生成氯化氢,氯化氢再与硅粉发生流化反应制备三氯氢硅,通过精馏工序将三氯氢硅提纯后,进入到还原炉中与氢气发生氢还原反应,得到的主要副产物四氯化硅经过精馏后,进入到热氢化炉中反应生成三氯氢硅,继续进入还原工序,实现循环闭环使用。多晶硅的生产过程主要包括如下几个工序: (1) 氯化氢合成工序 (2 ) 三氯氢硅合成工序 (3) 合成气干法分离工序 (4) 氯硅烷分离提纯工序 (5) 三氯氢硅氢还原工序 (6) 还原尾气干法分离工序 (7) 四氯化硅氢化工序 (8) 氢化气干法分离工序 (9) 氯硅烷贮存工序 (10) 硅芯制备工序 (11) 产品整理工序 (12) 废气和残液处理工序 (13) 工艺废料处理工序 九、多晶硅耐磨球阀常见问题 九、多晶硅耐磨球阀常见问题 九、多晶硅耐磨球阀常见问题 十、多晶硅耐磨球阀应用方案 十、多晶硅耐磨球阀应用方案 十、多晶硅耐磨球阀应用方案 十、多晶硅耐磨球阀应用方案 十、多晶硅耐磨球阀应用方案 产品整理工序工艺二: 7、产品整理工序 硅棒 取样分析检验 贴标签 去头尾 检查1 滚磨 分档切断 去石墨头尾料、横梁料 打尖 包装 重量、长度、直径 腐蚀、清洗、干燥 检验 出厂 8、硅芯拉制 在还原炉多晶生成前,需要硅芯制备,采用硅芯炉制备硅芯,在拉制好的φ8×2200或2800mm的多晶硅硅芯棒上切丫口,制搭接横梁,经检测清洗处理后送至还原生产。 在多晶硅成品整理的过程中,按照国标或国际标准和用户要求采样检测多晶硅质量,测电阻率、导电型号、碳含量、寿命及分析金属杂质含量等指标 。 9、废气和残液处理工序 本工序由四套废气处理系统和一套残液处理系统组成,分别用于处理来自氯硅烷分离提纯工序和氯硅烷贮存工序、多晶硅还原工序及四氯化硅氢化工序、合成气干法分离工序、还原尾气干法分离工序及氢化气干法分离工序、三氯氢硅合成工序的含氯硅烷、氯化氢的废气,以及处理来自各工序的氯硅烷废液。 反应方程式如下: SiHCl3 + 2H2O = SiO2 + 3HCl + H2 HCl + NaOH = NaCl + H2O 废气残液处理由于主要是酸碱中和反应,腐蚀性较大,因此对设备、操作人员的腐蚀性要求较多,设备全是玻璃钢材质。 10、工艺废料处理工序 本系统对多晶硅生产装置产生的以下三类废液进行处理,使处理后的水达到国家要求的排放标准,同时满足循环水系统补充水(即工业水标准)的质量要求,可以实现二次回用;同时分离出低含湿量的固渣,以便于输送、填埋或利用。 A.碱性废水处理 废气及残液处理工序排出的含SiO2固体的碱性氯化钠废液,用盐酸进行中和(优先使用氯化氢合成工序产生的盐酸废液),经凝聚、沉淀,含SiO2固渣的浆液送去与含氟废液、冲洗废水处理后生成的浆液混合进行压滤操作;氯化钠清液可外运作为烧碱生产的原料,或送入清液收集槽与含氟废液处理生成的清液混合,待作进一步处理。 工艺废料处理工序 B.含氟废液处理 来自硅芯制备工序和产品整理工序的废氢氟酸和废硝酸,用NaOH溶液中和,再加入CaCl2溶液,生成含氟化钙沉淀和硝酸钠、硝酸钙的溶液。经凝聚、沉淀,含CaF2固渣的浆液送去与碱性废水、冲洗废水处理生成的浆液混合进行压滤操作;含Ca(NO3)2和NaNO3的清液送入清液收集槽与碱性废水处理生成的清液混合,待作进一步处理。 清液收集槽内的含NaCl、Ca(NO3)2和NaNO3的溶液,送去进行蒸发浓缩和结晶操作。蒸发出的水蒸气冷凝后返回多晶硅装置用于废气洗涤系统或循环水装置的补充水;浓缩后生成结晶的含固液体,经压滤得到氯化钠、硝酸钠、硝酸钙的含湿固体,运出填埋,滤液返回清液收集槽,然后进行循环蒸发结晶操作。 C.冲洗废水处理 来自硅芯制备工序和产品整理工序,经酸洗处理后的硅芯和多晶硅产品用超纯水清洗,生成的含微量氢氟酸和硝酸的废水,用NaOH溶液中和,再加入CaCl2溶液,其中的氢氟酸转化为微量的氟化钙沉淀,同时生成微量硝酸钠和硝酸钙。经过凝聚、高效沉淀和一系列由粗到精的过滤过程,除去废水中绝大部分固体,令水质达到工业水标准,送回多晶硅系统用作循环水装置的补充水。处理过程生成的少量含固渣的浆液送去与碱性废水处理、含氟废液处理生成的浆液混合进行过滤操作。 碱性废水处理、含氟废液、冲洗废水处理生成的含固浆液进行压滤操作后,滤渣为SiO2、CaF2的含湿固体,送渣场堆埋;滤液送入清液收集槽。 工艺废料处理工序 七、改良西门子生产工艺主要设备 氯化氢合成炉 三氯氢硅合成炉 精馏塔 压缩机 冷冻机 变温吸附柱 氢化炉 还原炉 八、STF耐磨球阀在多晶硅行业的优势 1,原

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