用于电子工业的纳米图案化与光刻方法.pdf

第 6 卷，第 1 期 纳米图案化和光刻方法 用于光刻/ 纳米图案化材料的六 氟醇-官能化甲基丙烯酸酯单体 喷墨印刷：促进印刷电子行业 发展的关键技术 用于高级微纳米制造工艺的导 描绘未来电子工业 电聚合物 自组装单层的微纳米尺度光致 图案化 前言 第 6 卷，第 1 期 欢迎阅读 2011 年第一期Material Matters™ ，本期题为“纳米图案 化和光刻方法”。本期将介绍用于形成纳米尺度的图案化材料特 征的多种方法，这些特征对于电子器件的制成至关重要。用于亚 Aldrich Chemical Co., Inc. 言 微米级制造的技术种类繁多，从起源于电子工业的复杂的、自上 Sigma-Aldrich Corporation 前 6000 N. Teutonia Ave. 而下的光刻方法，到最近发展起来的新方法，包括依赖于自组织 Milwaukee, WI 53209, USA 的自下而上的方法。对于纳米图案化，这两种类型均已提出了若 干种具体的方法，并经过了充分地验证。 Kaushik Patel 博士 材料科学 下订单 现在的绝大多数电子器件都是使用自上而下的光刻技术制造的， Sigma-Aldrich Corporation 电话 800-325-3010 （美国 这种技术依赖于先进复杂的仪器和特制的材料。例如，典型的集 传真 800-325-5052 （美国 成电路由硅、砷化镓或锗等衬底上的各种图案化的金属、电介质和半导体薄膜构成。 这类器件通常采用光刻技术制成，在光刻过程中使用称为抗蚀剂的辐射敏感聚合材料 客户及技术服务 在衬底中产生所需的电路图案。然而，人们仍在继续研究非光刻方法，这种方法能提 客户咨询 800-325-3010 供技术上更简单、经济上更实效的纳米制造策略。本期就将介绍其中的一些方法，包括