(表面工程学)第五章气相沉积技术.ppt

第 五 章 1. 形核 ①蒸气流和基片碰撞,一部分被反射,一部分被吸附。 ②沉积原子碰撞,形成簇团(cluster)。 ③当原子数超过某一临界值时就变为稳定核。 2. 长大 ④稳定核通过捕获入射原子的直接碰撞而长大。 ⑤继续生长,和临近的稳定核合并,进而变成连续膜。 影响蒸镀薄膜质量的因素 1. 基体表面状态 ① 表面清洁度→不洁表面会使膜基结合力↓ ② 基体温度 →T↑,有利于膜基结合力 ↘ ↘T↓,有利于膜的凝聚成核→矛盾 ③ 晶体结构 →膜基晶体结构相近,有利于薄膜的形核长大。 2. 真空度 ①高真空→高纯薄膜;原子碰撞几率↓,能耗↓ →结合力↑ ②低真空→因碰撞原子能量低,易 形成低能原子团→薄膜组织粗大, 致密度↓,表面粗糙度↑ 3. 蒸发源与基体表面的距离 近水楼台先得月 均镀能力不强→通过工件旋转弥补 原理: 电阻丝直接加热镀膜材料(或蒸发器皿加热、或通过坩埚加热镀膜材料)→蒸发→沉积。 优点:设备简单 缺点: ① 坩埚污染或灯丝污染 ② 蒸发温度小于1500?C,不能用于高熔点成膜材料。 ③ 加热蒸发速度慢 几乎已被淘汰 原理:

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