利用掠入射X射线技术表征高分子薄膜-大学化学-北京大学.PDFVIP

第 24卷 　第 2期 大 学 化 学 2009年 4 月 今 日化学 利用掠入射 X射线技术表征高分子薄膜 张吉东 　莫志深 (中国科学院长春应用化学研究所 高分子物理与化学国家重点实验室 　吉林长春 130022) 　　摘要 　掠入射 X射线技术是一种表征高分子薄膜的结晶性 、厚度 、界面粗糙度等物理量的新 方法 ,本文简单介绍了这种技术中 X射线反射率法和掠入射 X 射线衍射法的基本原理 、测试和分 析方法以及这些方法在高分子薄膜研究中的应用 。 　　随着科学技术的发展 ,厚度仅为纳米级的高分子薄膜在如微电子器件 、生物医用 、巨磁薄 膜等领域得到越来越多的应用 。对这些薄膜的结晶性以及厚度 、界面情况等的表征是很重要 的。由于一些界面是埋在高分子薄膜下方 ,很难用如扫描电子显微镜 、扫描探针显微镜等手段 表征出来 ; 同时由于高分子薄膜的衍射信号较弱 ,而且容易被基底信号掩盖 ,所以用常规 X 射 线衍射方法很难表征出高分子薄膜的结晶性 。掠入射 X 射线技术的出现为这方面的研究提 供了一个新的机遇 。 ( ) [ 12 ] 　　掠入射 X射线 Grazing inciden t X ray 技术是一种新颖的测试薄膜的技术 ,在测试时 , X射线以很小角度入射到样品表面 ,几乎与样品平行 。一般有两种测量模式 :对称耦合模式和 ( 非耦合模式 。前者测试时入射角与反射角同步等步长增加 ,亦称 X 射线反射率 Xray R eflec tivity, XRR ) 的测量 ,常用于测量薄膜的密度 、厚度 、粗糙度以及密度分布等信息 。后者测试时 ( 入射角不变 ,探测器在大角区扫描测量衍射信号 ,亦被称为掠入射 X 射线衍射 Grazing inci ) ( den t Xray d iffraction , G IXRD ,常被用来表征薄膜的结晶信息 如晶型、取向、结晶度 、微晶尺 ) 寸等 。本文简单介绍掠入射 X 射线技术的基本原理和在高分子薄膜表征中的一些初步应 用 。 1　X射线反射率测量的基本原理 　　在 X射线范围内,折射率可表示为如下的复数形式 : ( ) δ( ) β( ) 　　　　n r = 1 - r - i r 2 N λ ρ( ) r N r δ( ) e A i ( ( ) ) 式中　　 r = 2π ∑ A Z i +f ′E i = 1 i 2 N λ ρ( ) r N r β( ) e A i ( ) 　　　　 r = 2π ∑ A f ″E