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热处理对聚偏氟乙烯
维普资讯
第2期 高 分 子 学 报 No.2
2007年 2月 A(:TA POLYMERICA SINICA Feb.,2007
热处理对聚偏氟乙烯.酰胺类溶剂所制薄膜结晶行为的影响
宋 锐 杨德彬 谢巧丽 何领好 刘宝菲
(郑州轻工业学 院化工-q材料学院 郑州 450002) (中国科学院研究生院化学化32学 院 北京 100049)
摘 要 使用红外光谱和偏光显微镜对 PVDF(聚偏氟乙烯)一DMF(N,N一二 甲基 甲酰胺)和 PVDF.DMAc(N,N一
二甲基乙酰胺)体系结晶行为的研究表明,PVDF薄膜 的结晶受制备溶剂 ,后期热处理温度和膜厚度等因素的
影响;升高温度 ,.3相含量减小;当温度低于 90℃时,PVDF.DMF体系的 F(.3)值较 DMAc体系大,在 90~
160~C之间则相反,且两种体系的 F()值分别在约 90℃和 80℃发生 “突变 ”;同时 ,结晶还 明显受到薄膜厚度
的影响,厚度大,结晶较完善 .
关键词 聚偏氟 乙烯 ,结晶,薄膜厚度 ,红外光谱
聚偏氟乙烯 (PVDF)是一类广泛应用的高分 1.3 基底处理
子材料 ,根据处理条件的不同,可以得到不同的结 将玻璃 片用水清洗干净后浸没于 HO 与
晶相 ~ ,其中n相具有优异的力学性 能,且是 H1s0 (V /V=3:7)的酸液 中,在 75℃超 声清洗
较好 的光电储能材料 ,可用作特定的光学 ,化学, 20min.冷却后,用二次蒸馏水仔细冲洗 ,并置于
电子,太阳能器件等 ;3|相具有很强的压 电效
红外灯下烘干备用 .
应 ,广泛用作各个领域 的换能器件 ,如光 电器件 ,
1.4 样品制备
压敏器件 ,湿敏器件等 ,是 目前应用得最成
采用旋转涂膜法 ,涂膜机为中科院微电子 中
功的一类压电高分子材料 .近年来 ,国内外学者就
心 KW一4A型台式匀胶机 ,转速为 500r/min,12S.
如何提高 n相和 3|相含量 ,开发 PVDF的新 的应
涂膜前将玻璃基底再次用丙酮清洗;制备 的样品
用领域 ,改善材料的压电效应等方面进行了广泛
在 50℃等温热处理 2h(使溶剂完全挥发),然后
而深入的研究.取得了 良好的结果 “.
将样品迅速取出,室温冷却后 ,将薄膜剥离 ,保存
通常,溶液涂膜 结 晶、单轴拉伸 、限制结 晶
备用.用同样的方法 ,制备出分别在 60~160~C等
等 “是获得 &一PVDF和 一PVDF常用 的方
温热处理 30min的样品.并用偏光显微镜观察样
法 ,而溶液涂膜,等温结晶是其中较为简单和直接
品的横切面,选取膜厚度大约为 200 m处的区域
一 种 .本实验采用溶液涂膜法,考察 了溶剂 、后期
进行样品测试 .
热处理温度、膜厚度等因素对 PVDF结 晶的影响,
厚度梯度样 品是将 一定量 的 10wt% PVDF/
研究 了形成 n相和 相 的条件 ,为进 一步调控
DMAc溶液滴在经丙酮清洗过 的玻璃片上,然后
P、DF结晶行为提供了必要
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