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2017-09-23 发布于河北
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光刻工艺及设备教材

光刻加工平台时文华曾春红王逸群 Email：whshi2007@ chzeng2007@ yqwang2008@ TEL 光刻培训流程到平台秘书处报名预约培训理论培训需付费人签字填写培训申请表上机培训实习期内不得独立上机操作，需相关人员陪同实习期 •正式授权后如一年内未进行上正式授权使用机操作者需从新授权使用光刻简介光刻的本质是把制作在掩膜版上的图形复制到以后要进行刻蚀和离子注入的晶圆上。其原理与照相相似，不同的是半导体晶圆与光刻胶代替了照相底片与感光涂层。光刻流程图前部工艺清洗表面处理涂胶前烘对准曝光坚膜显影后烘核心工艺否去胶检查黄光室通过刻蚀注入基本工艺流程 • 旋转涂胶 •对准和曝光 • 显影光源光刻版光刻胶衬底光刻胶光刻胶是一种有机化合物，受紫外曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。晶片制造