光波导技术14-03.pdf

3. 平板光波导 参考书： 《导波光学》 范崇澄 《光波导理论》 吴重庆 光波导技术 华中科技大学·光电信息学院 1/540 光波导的分类  按光波导形状分类  光纤（圆柱形介质波导）  薄膜波导（平板波导）  条形波导（矩形波导)  带状波导  按折射率分布分类  均匀介质光波导  渐变折射率介质光波导 光波导技术 华中科技大学·光电信息学院 2/540 均匀介质平板光波导  平面光波导是指组成光波导不同介质的折射率分布 的分界面是一些平面的光波导。  结构：y, z方向无限延伸 x方向 （厚度）尺寸d接近于传输光波长量级 （数微米） 损耗1dB/cm左右  分类： 按照构成光波导的介质层数：三层、四层…平面波导 按照折射率分布：均匀（阶跃型）平面波导 非均匀（渐变折射率）平面波导 光波导技术 华中科技大学·光电信息学院 3/540 衬底材料及波导结构  衬底材料：玻璃、电光晶体、半导体材料 常用的6种：铌酸锂（LiNbO3 ）、Ⅲ- Ⅴ族半导体化合物 、二氧化硅（SiO2 ）、SOI （Silicon-on-Insulator,绝缘体 上硅）、聚合物（Polymer ）和玻璃 光波导技术 华中科技大学·光电信息学院 4/540 平板波导制作工艺  工艺：薄膜成型法（离子扩散、晶体生长、刻蚀） 以二氧化硅光波导为例： 1)采用火焰水解法（FHD）或者化学气相淀积工艺（CVD），在硅片上生长一 层SiO2 ，其中掺杂磷、硼离子，作为波导下包层； 2)采用FHD或者CVD工艺，在下包层上再生长一层SiO2 ，作为波导芯层，其中 掺杂锗离子，获得需要的折射率差； 3)通过退火硬化工艺，使前面生长的两层SiO2变得致密均匀； 4)进行光刻，将需要的波导图形用光刻胶保护起来； 5)采用反应离子刻蚀（RIE）工艺，将非波导区域刻蚀掉； 6)去掉光刻胶，采用FHD或者CVD工艺，在波导芯层上再覆盖一层SiO2 ，其中 掺杂磷、硼离子，作为波导上包层； 7)通过退火硬化工艺，使上包层SiO2变得致密均匀。 光波导技术 华中科技大学·光电信息学院 5/540  二氧化硅波导工艺中的几个关键点： 1)材料生长和退火硬化工艺，要使每层材料的厚度和折射率均匀且准确， 以达到设计的波导结构参数，尽量减少材料内部的残留应力，以降低波导 的双折射效应； 2)RIE刻蚀工艺，要得到陡直且光滑的波导侧壁，以降低波导的散射损耗； 3)RIE刻蚀工艺总会存在Undercut ，要控制Undercut量的稳定性，作为布版 设计时的补偿依据。 光波导技术 华中科技大学·光电信息学院 6/540 以玻璃光波导为例：