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2017-09-29 发布于湖北
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晶硅表面纳米减反射微结构的制备与应用研究进展.pdf

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晶硅表面纳米减反射微结构的制备与应用研究进展

晶硅表面纳米减反射微结构的制备与应用研究进展沈鸿烈 hlshen@nuaa.edu.cn 南京航空航天大学材料科学与技术学院江苏省能量转换材料与技术重点实验室 Page 1 10th CSPV, Nov. 6-8, 2014, Nantong, China Outline 1 引言 2 RIE技术制作纳米减反射微结构 3 MACE技术制作纳米减反射微结构 4 电化学腐蚀制作纳米减反射微结构 5 纳米减反射微结构的气相钝化技术 6 纳米减反射微结构的液相钝化技术 7 纳米减反射微结构在电池中的应用 8 展望 2 Page 2 1. 引言 2012年全球不同技术太阳电池所占份额 Page 3 1. 引言原料丰富，硅在地壳中含量位居优势第二，仅次于氧；产业化工艺成熟，配套设备齐全。晶硅电池不足光电转换效率有待提高 Page 4 1. 引言在现有工业化生产中，制绒过后的单晶硅和多晶硅的表面反射率仍然较高，在可见光范围内分别为13%和 22% ，且短波方向上的反射率明显较高；虽然后续工艺中沉积的SiNx薄膜可以进一步起到减反射的作用，但其只能对一定范围的光起减反射作用，尤其在短波长范围内的反射率还是很高；因此，要进一步提高太阳电池转换效率，必须尽量降低整个光谱范围的入射光在硅片表面的反射率，从而增大电池对光的吸收率，最终提高电池光电转换效率。 Page 5 1. 引言飞秒激光法反应离子刻金属辅助化纳米硅减蚀法学腐蚀法反射结构 ( RIE ) ( MACE ) 制备方法电化学腐蚀法 Page 6