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大气压冷等离子体射流简介 报告人：谢新华 学号:P院系：物理学院应用物理系等离子专业 日期：2012年12月20日 简介 大气压下放电的喷射状等离子体 性质：气体温度低 工作气压高 不空间限制 分类：按电极位形 按供电电源频率 大气压冷等离子体射流参数 大气压冷等离子体射流参数 大气压冷等离子体射流参数 能量馈入效率：工业应用需要考虑的重要参数 影响因素：电源供电频率 电源电流位形 大气压等离子体射流原理 大气压等离子体放电困难： Ⅰ.放电电压高 Ⅱ.容易过渡到电弧 解决办法： Ⅰ.半导体线路或者电阻、或者电阻类型介质限流 Ⅱ.空心阴极放电 Ⅲ.介质阻挡放电 Ⅳ.微波放电 大气压等离子体射流原理 等离子体射流放电三种模式：（Walsh提出） 无序模式、子弹模式、有序模式 大气压等离子体射流原理 Dawson流光增殖模型：（光致电离） 阴极流光形成正离子区 发射光子电离气体 电子加速造成雪崩 电子与原正离子复合 电离正离子前进 大气压等离子体射流原理 Dawson流光增殖模型计算：（ XinPei Lu和Mounir Laroussi） 大气压等离子体射流原理 Dawson理论射流形成条件： 1.首先，新产生的正离子必须和原来的等离子体球离子密度相当； 2.雪崩头（前端）的扩散半径不能大于r0； 3.在初始等离子体球和后来形成的等离子体球重合时雪崩头必须达到足够的放大率，即是r22r0。 大气压等离子体射流原理 n+ _Number of original positive charges_109     1     2     3     4     5 R2_cm_ 0.02 0.1 0.17 0.23 0.3 r0 _cm_ 0.056 0.068 0.075 0.08 0.085 不同形式的大气压冷等离子体射流 Laroussi和Lu的“等离子体笔”放电装置 ICCD拍照，射流速度高达100KM/s 不同形式的大气压冷等离子体射流 不同形式的大气压冷等离子体射流 射频源驱动大气压冷等离子体射流： Koinuma等人于1992最早研究RF等离子体射流 硫化橡胶处理、SiO2沉积、TiO2的沉积以及富勒烯的合成 Stoffels的RF生物处理装置 杀菌、真核细胞操作、诱导老鼠纤维母细胞凋亡、以及无损细胞分离、分析。 不同形式的大气压冷等离子体射流 微波驱动大气压冷等离子体射流： A.I.Al-Shamma’a、S.R.Wylie、J.Lucas和C.F.Pau微波装置： 大气压冷等离子体射流应用 工业应用： ①材料表面改性、修饰处理：如食品包装。 ②物体表面有机污染物处理：如光学仪器表面污垢、文物表面锈迹的去除。 ③半导体行业：半导体材料的刻蚀、镀膜、非晶碳的沉积等。 大气压冷等离子体射流应用 医疗应用： ①杀菌消毒、伤口病理：如皮肤表面伤口消毒 ②凝血、止血 ③ 肌肤修复、牙齿的消毒与洁白： 大气压冷等离子体射流应用 生物医药： ①对细胞的操作，修饰细胞膜的通透性; ②影响细胞的分裂、增殖； ③对DNA的操作。 ④生物制药； 总结 大气压冷等离子体射流有着低气压等离子体所不具有的无空间限制性，能够灵活地使用，没有腔体和真空设备，大大降低了成本，所以其实用性正在逐渐的体现并得到发挥，正逐渐应用在工业、医疗、卫生、生物医药等领域。 致谢 谢 谢