杯状纵磁真空灭弧室三维涡流场仿真.pdfVIP

第 卷 第 期 电工 电能新 技 术 ， ! ! 7./ 8! 9. 8! 年 月 !##$ $ %’()*+ ,+*-)./.01 .2 3/+*456*(/ 3)06)++56)0 () 3)+501 %:5 8 !##$ !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! 杯状纵磁真空灭弧室三维涡流场仿真 刘志远，谢克松，王仲奕，王季梅 （西安交通大学电气工程学院，陕西 西安A@##$ ） 摘要：对杯状纵磁真空灭弧室触头建立了与实际触头结构完全一致的有限元分析模型，模型中把 电弧弧柱处理成圆柱形金属导体。对模型用有限元法进行了三维涡流场仿真。仿真结果表明，考 虑电弧以及杯和电弧的涡流效应后，在电流峰值时，触头片中电流密度最大值变大；触头片上槽一 侧的纵向磁场比另一侧强；磁感应强度 B 矢量在触头表面上的分布呈“旋涡”形状，其纵向分量在 触头中心较大，越靠近触头边缘越小，而横向分量则增大；电流过零时，与未考虑电弧以及杯和电弧 的涡流效应时的计算结果相比，触头间隙中心平面上及触头表面上的纵向磁场分布变为“帐篷”形 状，纵向磁感应强度最大值也变大。在触头开距中心处纵向磁场较强且纵向磁场滞后时间也相对 较长。 关键词：真空灭弧室；纵向磁场；真空电弧 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） ,C?D@E! % @##;#AD !##$ #!;##!D;# ［ ］ ;? 电弧控制技术之间的比较 。 ! 引言 有限元分析模型 杯状纵磁真空灭弧室是目前广泛使用的一种真 空灭弧室。在对杯状纵磁真空灭弧室触头产生的纵 本文分析的杯状纵磁触头模型如图 所示。该 @ ［］ 向磁场的有限元分析方面， 和 @ 和刘志 模型与实际触头结构完全一致。模型参数同文献 F4.’6)0 B+G4+/ ［］ ［］ D ! ［］。电弧电导率为 。模型中流过 远等 作了较详细的分析工作。他们都给出了三维 ! !H##FI J ?#KL 涡流场分析结果，得到了触头片中电流分布和触头 有效值@###% 的电流。 表面的纵向磁场分布。此外文献［］给出了纵向磁 @ 场的实部和虚部沿触头直径的分布，文献［］得到了 ! 电流过零时在触头表面和触头间隙中的纵向磁场分 布。不过，