六氰合铁酸锰铬修饰电极的制备及其电化学行为.PDF

第13卷 第3期 电化学 Vol.13 No.3 2007年8月 ELECTROCHEMISTRY Aug.2007 文章编号:1(X)6一471(2007)03刁334刁5 六氰合铁酸锰铬修饰电极的制备及其电化学行为 张胜涛，韩晓燕*，薛茗月 (重庆大学化学化工学院，重庆4(目)44) 摘要:应用循环伏安法在活化玻碳电极(GcE)表面制备六氰合铁酸锰铬(MncrHcF)膜修饰电极(MncrH- CF/GCE)并研究其电化学性质.探讨影响膜电沉积的因素，研究PH值以及不同支持电解质等制备条件对该 修饰电极性能的影响，优化制备工艺，分析其反应机理. 关键词:玻碳电极;六氰合铁酸锰铬;循环伏安法 中图分类号:仪碑6 文献标识码:A 多核过渡金属铁氰化物薄膜修饰电极的制备 循环伏安曲线.扫描初始(a):首先在0.8一0.gv 方法简单，且其电化学性能稳定、价格低廉，广泛应 之间显示一对氧化还原电流峰;约循环5周后 用于分子识别、光电转换、电催化、电致变色、离子 (b)，又在0.2一0.6V之间出现一对新氧化还原电 选择、防腐蚀、生物传感、水的光解等方面 〔“‘〕. 流峰，这正是Fe(CN)。，一/4一电对的氧化还原峰，其 本文应用 电化学方法在活化玻碳 电极 峰电流随着循环次数的增加逐渐增大，对应于该电 (ccE)[41表面制备了MnCrHCF化学修饰电极，优 极表面修饰膜的厚度的不断增大，并且修饰膜具有 化制备条件，研究其电化学性能.该修饰电极可望 很好的离子导电性，所以不会阻碍溶液中电解质离 用于电分析领域. 子的传输，利于修饰膜的生长.但还原峰电位逐渐 1 实验部分 负移，氧化峰电位逐渐正移，△凡增大，反应的可逆 性变差. 1.1 主要仪器和试剂 化学反应实验显示:如将1/10一，md·L一， CHI66OB型电化学工作站，雷磁pHS一5型酸 K4Fe(CN)6、lxlo一，mol·L一’MnclZ、lxlo一’mol 度计，三电极体系:工作电极为少 的GCE，参比电 ·L一c‘‘1。和0.lmol·L一’KCI的溶液相互混 极为饱和甘汞电极，对电极为铂片.溶液由分析纯 合，立即会产生一种蓝紫色沉淀，其色泽与上述GC 试剂和二次蒸馏水配制. 表面生成的修饰膜相近.但若混合的溶液是lx 1.2 实验方法 10一，mol·L一K‘3Fe(cN)。和1/10一，mol·L一‘ 由循环伏安法于GCE表面制成MnCrHcF/GC MnC12，lxlo一，mol·L一’C‘13及0.lmol·L一‘ 修饰电极·电解液组成:K3Fe(CN)。+MnclZ+ KCI，却不产生任何沉淀.由此可以推断MnCrHCF CIC13，支持电解质分别为0.lmol·L一‘KCI、 修饰电极的生成机理可能为: KNo。、K2s04、NaCI、NaNo。、NaZs04.每次实验前， Fe(111)*Fe(11) (枯二/恤电对) 溶液通氮气约巧min以排除溶解氧，室温下实验， Mn(11)一Mn(1