干蚀刻简介.PDF

干蚀刻简介 目录 一、干蚀刻的定义 二、干蚀刻的原理 三、干蚀刻的模式 四、干蚀刻设备结构 五、干蚀刻制程腔的构造 一、干蚀刻的定义 酸 去光阻液 气体 (Stripper) 镀 清洗 下 一 层 膜 去光阻 蚀刻 (Dry、Wet) 镀膜(PVD、CVD) 光罩 显影液 上光阻(Coater) 曝 (Exposure) 显影(Developer) 一、干蚀刻的定义 干蚀刻的定义： 蚀刻，就是通过“ 电浆（Plasma）蚀刻”即干蚀刻或“湿式化学蚀刻”将显 影后没有被光阻覆盖的薄膜去除，做出需要的线路图案； 干蚀刻，即将特定气体置于低压状态下施以电压，将其激发成电浆，对 特定膜层加以化学性蚀刻或离子轰击，达到去除膜层的一种蚀刻方式； 简单的说，干蚀刻：去掉不想要的薄膜，留下想要的。 干蚀刻一般用于 非金属膜的蚀刻 二、干蚀刻的原理 什么是电浆？ 加热 加热 加电 固体 液体 气体 电浆 自由基 正离子 电子 分子 电浆是除固、液、气外，物质存在的第四态。 它主要由电子、正离子、分子、自由基等组成，但其中正负电荷总数却处处 相等，对外显示电中性。这种状态的气体被称为电浆（Plasma）。 二、干蚀刻的原理 电浆中的碰撞 电浆中有两类碰 1.弹性碰撞 2.非弹性碰撞　  弹性碰撞: 无能量交换，较常发生，但对蚀刻影响不大  非弹性碰撞: 能量交换，对蚀刻影响很大  主要反应方式有： 离子化碰撞 分解碰撞 激发松弛碰撞 二、干蚀刻的原理 离子化碰撞  当电子与一个原子或分子相碰撞时，它会将部分能量传递给受到原子核或 分子核束缚的轨道电子上。如果该电子获得的能量足以脱离核子的束缚， 它就会变成自由电子，此过程称为粒子碰撞游离。 + e- +A→A +2e-  离子化碰撞非常重要，它产生并