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掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究!-物理学报
第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报
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掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究!
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达 宁 杨旅云 彭明营 孟宪庚 周秦岭 陈丹平 赤井智子 角野广平
!）（中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 %!%% ）
）（中国科学院研究生院，北京 !%%%% ）
$ ）（日本产业技术综合研究所，大阪’($)’** 日本）
（ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿）
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应用+,--)./012 理论计算了新型掺铒高硅氧玻璃中铒离子的强度参量 （ ，，）， 7% ，
! ! 3 4 ( ! 3 5 !’ 6 !% ! 3
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!54$ 6 !%7% ， 3 !5 6 !%7% ，相比于其他氧化物玻璃，表现出较大的 值，反映了铒离子周围的近邻结构不对
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称性和 键的离子键成分较高 利用 理论计算得到了能级4 4 跃迁的受激发射截面为
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