半透明阴极对蓝光顶发射器件光电性能的影响.docVIP

第四章 顶发射器件阳极一般采用高反的金属，而阴极使用功函数且半透明的ITO或者金属等。由于采用溅射方法生长ITO容易破坏有机层，且工艺相对复杂，所以更多的顶发射阴极采用半透明金属。诸如金属Ca、Mg、Al、Ag等可以通过真空蒸镀生长，电导率高、电子注入势垒小成为顶发射器件阴极的首选[15, 16, 30] 。当然，上述金属材料也存在各自的缺点，如Ca、Mg的化学性质活泼；Al、Ag的透光性差等。 本章使用半透明Ag作为顶发射器件的阴极，其具有稳定性好在可见光范围吸收小电阻率小容易等优点。然而，由于Ag的功函数较高（4.6eV左右），与有机电子传输材料之间的注入势垒较大，需要增加一层缓冲层以改善电子注入性能降低开启电压。由于Ag的透光性相对较差，我们最终选择钐（Sm）作为缓冲层降低器件开启电压，结合其透光性较好图4.1为金属Sm与Ag在20 nm时的反射率透射率曲线。从图中我们可以看出，相同厚度下的Sm的透过率在可见光比Ag高1-2倍，反射率要低4-5倍，图中的数据启发，本章设计一组实验通过金属Sm与Ag调节来抑制顶发射蓝光器件的微腔作用优化器件的光性能。 图4.1 Sm和Ag下的射率透射率曲线 4.1 实验仪器及测试设备 采用参与设计研制的沈阳市超高真空应用技术研究所生产的全封闭交叉式真空成膜机系统进行有机薄膜金属膜的蒸镀。系统分金属室、有机室、预处理室，一般分别用来生长金属、有