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不同湿度条件下NSi共掺杂DLC膜的摩擦学性能研究
第 37 卷 第 4 期 摩 擦 学 学 报 Vol 37 No 4
2017 年 7 月 Tribology Jul, 2017
DOI: 10.16078/j.tribology.2017.04.012
不同湿度条件下N 、Si共掺杂DLC膜的
摩擦学性能研究
吴行阳, 陈 腾, 葛 宙, 阮敬杰, 吕 博, 张建华*
(上海大学 机械工程与自动化学院，上海 200072)
摘 要: 采用射频化学气相法沉积了氮、硅共掺杂类金刚石碳膜(N-Si-DLC). 用X射线光电子能谱仪、拉曼光谱仪、
表面形貌仪及扫描电子显微镜等对薄膜结构进行了表征，用球-盘往复摩擦试验机考察了不同湿度(RH为15%，
2
45%和75%)空气中薄膜与316L不锈钢球配副的摩擦学性能. 结果表明：与Si-DLC相比，N-Si-DLC膜内sp C成分含量
较高，N主要以C=N、C≡N、Si-N键形式存在于膜内；膜的内应力低，硬度和杨氏模量较低；含N量少的N-Si-DLC膜显
示出更低的摩擦与磨损，其摩擦学性能对湿度的变化表现出较低的敏感性.
关键词: 类金刚石薄膜; 氮掺杂; Si-DLC; 湿度; 电子受体
中图分类号: TG174.44; TH117.2 文献标志码: A 文章编号: 1004-0595(2017)04–0501–09
Tribological Properties of N and Si Co-doped DLC Films
under Different Humidity Conditions
*
WU Xingyang, CHEN Teng, GE Zhou, RUAN Jingjie, LV Bo, ZHANG Jianhua
(School of Mechatronic Engineering and Automation, Shanghai University, Shanghai 200072, China)
Abstract : Nitrogen and Silicon co-incorporated DLC (N-Si-DLC) films were deposited by RF-CVD method. X-ray
photoelectron spectrometer, Raman, surface profilometer and scanning electron microscope were used to characteriz
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