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在co存在下六氟化铀的激光-上海有机化学研究所
化学学报 ACTA CHIMICA SINICA
1985, 43, 24-29
在co 存在下六氟化铀的激光
光敏反应的研究
侯惠奇何志强秦启宗铮
〈复旦大学激光化学研究室，上海)
本文以 TEA C0 CO 为 F原子清扫剂、 SFe 为光敏剂，研究了 U矶的红外光
激光为激发光源、
2
解离率的影响.测得反应产物
敏反应.测定了 CO 分压、激光频率、能量密度和脉冲辐照次数对 UF
e
COF UF SFe 和 UFe 分子的
中有 存在，反应速率与 分压呈一级关系.同时，还计算了振动受激的
2 6
态密度，讨论了 SFe 与 UF v-v 能量转移及该光敏反应的机理.
分子间的
e
在激光化学中使用光敏剂能扩大 00 SF TEAOO
II
为光敏剂，由
激光器的应用范围.以
6
2
光敏诱
UF . Karve 等∞用混频的脉冲 00 激光对SF
激光诱导的
红外光敏反应已有报道
2 6
6
UF . Anglie 等I幻曾简单报道了 SF -UF -H
体系的激光光敏反
导的
解离作了定性的研究
2
6 6
6
应，测定了 UF 和 H:a分压对解离率的影响.与此同时，我们也开展了这方面的研究.前文队
6
F
已报道了以 SF H
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