离子渗氮用气对后续磁控溅射镀层性能的影响.PDFVIP

第２４卷 第 ３期 中　国　表　面　工　程 Ｖｏｌ．２４ Ｎｏ．３ ２０１１年６月 ＣＨＩＮＡＳＵＲＦＡＣＥＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ Ｊｕｎｅ ２０１１ ｄｏｉ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ２０１１．０３．００５ 离子渗氮用气对后续磁控溅射镀层性能的影响 王军勇，陈炳州，孙海林 （浙江汇锦梯尔镀层科技有限公司，杭州３１１３０５） 摘　要：以４０Ｃｒ钢为基体材料，进行离子氮化和闭合场非平衡磁控溅射 ＰＶＤ复合表面处理工艺试验。重点探讨用 氮、氢混合气体及工业用氨进行离子氮化所得到的白亮层对后续 ＰＶＤ镀层性能的影响。测试了镀层厚度、膜基结合力 及摩擦学性能。结果显示，不同渗氮气体得到的复合镀层临界划痕载荷均大于６０Ｎ，洛氏压坑边缘均无剥落，但氨处理 的压坑边缘有少量坍塌并出现裂纹，表明其白亮层存在缺陷，在球坑试验的试样上也直接观察到缺陷的存在。存在缺 陷的白亮层断裂韧性低，压坑试验时，缺陷处启动裂纹并扩展，导致化合物层和 ＰＶＤ镀层的剥落。销盘磨损试验结果表 明，用氮和氢混合气体氮化后镀 ＣｒＴｉＡｌＮ具有更好的综合摩擦学性能。 关键词：４０Ｃｒ钢；离子氮化；磁控溅射；复合表面处理；比磨损率 中图分类号：ＴＧ１７４．４４４　　　　文献标识码：Ａ　　　　文章编号２０１１ ＥｆｆｅｃｔｏｆＰｌａｓｍａＮｉｔｒｉｄｉｎｇＧａｓｏｎｔｈｅＳｕｂｓｅｑｕｅｎｔＭａｇｎｅｔｒｏｎＳｐｕｔｔｅｒｅｄＣｏａｔｉｎｇｓ ＷＡＮＧＪｕｎｙｏｎｇ，ＣｈｅｎＢｉｎ ｚｈｏｕ，ＳＵＮＨａｉｌｉｎ （ＺｈｅｊｉａｎｇＨｕｉｊｉｎＴｅｅｒＣｏａｔｉｎｇｓＴｅｃｈ．Ｃｏ．，Ｌｔｄ．，Ｈａｎｇｚｈｏｕ３１１３０５） Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＡｃｏｍｐｌｅｘｓｕｒｆａｃｅｔｒｅａｔｍｅｎｔｗｉｔｈｐｌａｓｍａｎｉｔｒｉｄｉｎｇａｎｄｃｌｏｓｅｄｆｉｅｌｄｕｎｂａｌａｎｃｅｄｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇＰＶＤｃｏａｔｉｎｇ ｗａｓａｐｐｌｉｅｄｏｎａｍｅｄｉｕｍｃａｒｂｏｎｓｔｅｅｌ４０Ｃｒ．Ｔｈｅｉｎｄｕｓｔｒｉａｌａｍｍｏｎｉａａｎｄｔｈｅｍｉｘｔｕｒｅｏｆｎｉｔｒｏｇｅｎａｎｄｈｙｄｒｏｇｅｎｗｅｒｅｕｓｅｄａｓｒｅａｃ ｔｉｏｎｇａｓｅｓｆｏｒｎｉｔｒｉｄｉｎｇ．Ｉｔ’ｓｅｍｐｈａｓｉｚｅｄｔｏｓｔｕｄｙｔｈｅｅｆｆｅｃｔｓｏｆｄｉｆｆｅｒｅｎｔｎｉｔｒｉｄｅｃｏｍｐｏｕｎｄｓｐｒｏｄｕｃｅｄｂｙｄｉｆｆｅｒｅｎｔｇａｓｅｓｏｎｔｈｅ ｓｕｂｓｅｑｕｅｎｔＰＶＤｃｏａｔｉｎｇｓ．Ｃｏａｔｉｎｇｔｈｉｃｋｎｅｓｓ，ｂｏｎｄｉｎｇｓｔｒｅｎｇｔｈａｎｄｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌａｓｐｅｃｔｓｗｅｒｅｔｅｓｔｅｄ．Ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌｒｅｓｕｌｔｓｓｈｏｗ ｔｈａｔｔｈｅｃｒｉｔｉｃａｌｌｏａｄｓｏｆｓｃｒａｔｃｈｔｅｓｔａｒｅｈｉｇｈｅｒｔｈａｎ６０Ｎｆｏｒｂｏｔｈｎｉｔｒｉｄｉｎｇｇａｓｅｓｕｓｅｄ．Ｔｈｅｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎｔｅｓｔｓｓｈｏｗｆｒｅｅｏｆｐｅｅｌｉｎｇ ｏｆｆａｔｔｈｅｅｄｇｅｓｏｆｔｈｅｉｎｄｅｎｔｓ，ｂｕｔｔｈｅａｍｍｏｎｉａｎｉｔｒｉｄｅｄｏｎｅｒｅｖｅａｌｓｓｌｉｇｈｔｃｏｌｌａｐｓｅａｎｄａｆｅｗｒａｄｉａｔｅｄｃｒａｃｋｓｗｉｔｈｒｅｇａｒｄｔｏｔｈｅ ｉｎｄｅｎｔｓ．Ｌｏｗｆｒａｃｔｕｒｅｔｏｕｇｈｎｅｓｓｏｆｔｈｅｄｅｆｅｃｔｅｄｃｏｍｐｏｕｎｄｌａｙｅｒｗｏｕｌｄｉｎｉｔｉａｔｅｃｒａｃｋｂｙｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎｔｅｓｔａｎｄｔｈｅｃｒａｃｋｇｒｏｗｔｈ ｌｅａｄｉｎｇｔｏｄｅｌａｍｉｎａｔｉｏｎｏｆｔｈｅｃｏｍｐｏｕｎｄａｓｗｅｌｌａｓｔｈｅＰＶＤｌａｙｅｒ．Ｉｎｆａｃｔ，ｔｈｅｄｅｆｅｃｔｓｃｏｕｌｄｂｅｏｂｓｅｒｖｅｄｗｉｔｈｂａｌｌｃｒａｔｅｒｔｅｓｔ． Ｔｈｅｒｅｓｕｌｔｓｏｆｐｉｎｏｎｄｉｓｋｔｅｓｔｉｎｄｉｃａｔｅｔｈａｔｔｈｅｃｏｍｐｌｅｘｔｒｅａｔｍｅｎｔｕｓｉｎｇｍｉｘｔｕｒｅｇａｓｏｆｎｉｔｒｏｇｅｎａｎｄｈｙｄｒｏｇｅｎｆｏｒｎｉｔｒｉｄｉｎｇｉｓｏｆ ｂｅｔｔｅｒｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅｔｒｉｂｏｌｏｇｉｃａｌｂｅｈａｖｉｏｒ． Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：４０Ｃｒｓｔｅｅｌ；ｐｌａｓｍａｎｉｔｒ