电子技术基础模拟部分主编康光华第3章二极管及其基本电路.pptVIP

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  • 2017-10-07 发布于广东
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电子技术基础模拟部分主编康光华第3章二极管及其基本电路.ppt

电子技术基础模拟部分主编康光华第3章二极管及其基本电路

3.1.1半导体材料 元素半导体:硅、锗 化合物半导体:砷化镓 其他材料:硼、磷、铟、锑 当半导体受光和热的刺激时,导电能力发生显著变化; 若加入微量杂质,导电能力也有显著提高。 3.开关应用 例:已知如图,求UF。 (2) 反向特性 当V<0时,即处于反向特性区域。 反向区也分两个区域: 当VBR<V<0时,反向电流很小,且基本不随反向电压的变化而变化,此时的反向电流也称反向饱和电流IS 。 当V≥VBR时,反向电流急剧增加,VBR称为反向击穿电压 。 在反向区,硅二极管和锗二极管的特性有所不同。 硅二极管的反向击穿特性比较硬、比较陡,反向饱和电流也很小;锗二极管的反向击穿特性比较软,过渡比较圆滑,反向饱和电流较大。 从击穿的机理上看,硅二极管若|VBR|≥7V时, 主要是雪崩击穿;若|VBR|≤4V时, 则主要是齐纳击 穿。当在4V~7V之间两种击穿都有,有可能获得 零温度系数点。 3.3.3 半导体二极管的参数 半导体二极管的参数包括最大整流电流IF、反向击穿电压VBR、最大反向工作电压VRM、反向电流IR、最高工作频率fmax和结电容Cj等。几个主要的参数介绍如下: (1) 最大整流电流IF—— 二极管长期连续工 作时

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