一种增大工艺窗口的光源优化方法_江海波.pdfVIP

激光与光电子学进展 52, 101101(2015) Laser Optoelectronics Progress ©2015《中国激光》杂志社 一种增大工艺窗口的光源优化方法 1,2 1 江海波 邢廷文 1 中国科学院光电技术研究所应用光学研究室, 四川成都 610209 2 中国科学院大学,北京 100049 摘要 离轴照明(OAI)作为一种重要的分辨力增强技术(RET)，不仅可以提高光刻分辨力，而且对焦深(DOF)也有一 定程度的改善。针对特定的掩模图形，采用何种离轴照明模式能最大程度地改善光刻成像性能是主要研究的内容。 通过优化设计的方法来获得最佳照明模式，采用的优化算法为最速下降法，采用的评价函数为光刻工艺窗口。工艺 窗口包含三个方面的信息：成像精确度、曝光度、焦深。通过空间像性能对这三个方面分别做了描述，并将这三个函 数加权得到综合评价函数，这种描述方法避免了复杂的光刻胶模型，评价函数值能快速准确地被求解。求解不同权 值下的最佳照明模式及该照明模式对应的实际工艺窗口大小，结果表明，空间像性能描述的评价函数能较好地反映 实际工艺窗口的性能，合理选择权值，优化得到的照明模式对工艺窗口性能有较大改善作用。 关键词 成像系统;光学光刻;离轴照明;光源优化 中图分类号 TN305.7 文献标识码 A doi: 10.3788/LOP52.101101 AMethodofSourceOptimizationtoMaximizeProcessWindow 1,2 1 JiangHaibo XingTingwen 1LaboratoryofAppliedOptics,InstituteofOpticsandElectronics,ChineseAcademyofSciences, Chengdu,Sichuan 610209,China 2UniversityofChineseAcademyofSciences,Beijing 100049,China Abstract Asanimportantresolutionenhancementtechnology(RET),off-axisillumination(OAI)cannotonly improvelithographyresolution,butalsoimprovedepthoffocus(DOF)tosomedegree.FindingabestOAImodeto improvelithographyperformanceforspecificmaskpatternisthemainresearchcontent.ThebestOAImodeis obtainedthroughoptimumdesignmethod,usingthesteepestdescentalgorithmastheoptimummethod,andusing processwindowastheevaluationfunction.Theprocesswindowcontainsthreeinformation:imagefidelity,exposure latitude anddepth of focus.The three aspects are described by performance of aerial image, and the three functionsareweightedtogetacomprehensiveevalu