胡椒孔法在强流脉冲离子束中的发射度测量.pdfVIP

第25卷第8期 强 激 光 与 粒 子 束 V01．25，No．8 2013年8月 HIGHPOWERLASERANDPARTICLEBEAMS Aug．，2013 文章编号： 1001—4322(2013)08—2067—04 胡椒孔法在强流脉冲离子束中的发射度测量+ 柯建林， 周长庚， 邱 瑞 (中国工程物理研究院核物理与化学研究所，四川绵阳621900) 摘要： 真空弧离子源的引出束流具有低能、强流等特点．当离子源工作在单脉冲模式时，被广泛采用的 缝一杯式和Alison式发射度测量方法不再适用。采用基于成像板的胡椒孔法测量了真空弧离子源的发射度。 初步研制了胡椒孔法发射度测量装置，利用该装置测量了引出电压为64kV时脉冲束流的发射度和发射相图。 在z方向和Y方向，测得归一化均方根发射度分别为6．41，4．61，c·mm·mrad。测量结果表明该真空弧离子 源在64kV时的归一化发射度远大于其他类型的离子源的发射度。 关键词：发射度测量；真空弧离子源；胡椒孔；单脉冲束 中图分类号：TL506 文献标志码： A doi：10．3788／HPLP2067 发射度是描述束流品质的重要参数，在束流传输设计方面有重要的作用。因此需要对离子源引出束流的 发射度进行研究。真空弧离子源具有束流强度高(几十至几百mA)、发射度大等特点，当其工作在单脉冲模式 要进行扫描，只能用于直流束和重复性较好的脉冲束的发射度测量。胡椒孔法[3]的优点在于一次测量即可获 得束流的四维发射度信息，也可消除强流束的空间电荷效应在测量过程中的影响。因此，胡椒孔法是适用于单 脉冲离子束流的测量方法。目前在国外，胡椒孔法已成功地应用在多种离子源的发射度测量上[4。6]。本文建立 了采用成像板进行束流收集的胡椒孔法发射度测量方法，并用该方法初步测量了单脉冲真空弧离子源引出束 流的发射度。 1 胡椒孔法发射度测量原理及方法 pepper—pot法测量束流发射度的原理示意图如图1 所示。其原理与缝一杯式发射度测量仪类似。通过测量 束流通过胡椒孔阵列后的分布，可以得到每个孔位置 (zi，Y，)对应的束流散角分布I(xi，z：，YJ，Y：)，其中成像 板上某位置(x，y)对应的束流散角z：=P，／p：和Y：= P。／p：由式(1)求得 zj一(x—z-)／L (1) YJ一(y—Y，)／L 式中：L为胡椒孔与成像板之间的间距。 根据测量得到的束流强度分布I(xi，z：，Yj，Y：)，可 Schematicofemittancemeasurement Fig．1 diagram 以得到束流的四维发射相图，进而求得束流发射相图投 with method pepper-pot 影到X和Y方向的椭圆发射度。由于强流束发射相图 图1 胡椒孔法发射度测量原理图 的边界往往并不清晰，本文计算的椭圆发射度￡为包含 99％离子的最小椭圆的面积S与常数7【之比 ￡一Sk (2) 归一化椭圆发射度为 ￡。一胁 (3) 式中：p和y为常用的相对论参量。 除了上述发射度定义之外，发射度还可以均方根发射度的形式进行定义。以z方向为例，其归一化均方 *收稿日期：2012-12-17；修订日期：2013—01—31 作者筒介：柯建林(1986一)，男，硕士，研究实习员．从事加速器物理相关研究；kejll@qq．corn。 强 激 光 与 粒