激光冲击处理对ZnO薄膜性能的影响.PDFVIP

第42卷 第5期 中 国 激 光 Vol.42,No.5 2015年5月 CHINESEJOURNALOFLASERS May,2015 激光冲击处理对ZnO薄膜性能的影响 1,2 2 1 2 花银群 季 平 陈瑞芳 赵杉月 1江苏大学机械工程学院,江苏镇江 212013 2江苏大学材料科学与工程学院,江苏镇江 212013 摘要 采用射频磁控溅射技术在Si(111)衬底上制备了多组分ZnO基陶瓷薄膜，利用Nd∶YAG激光器对多组分ZnO 基陶瓷薄膜进行了激光冲击处理，研究了激光冲击处理对多组分ZnO基陶瓷薄膜压敏电性能的影响。结果表明， 激光冲击处理后，薄膜的晶粒尺寸显著减小，表面更加平整致密。薄膜的压敏电性能得到了不同程度的改善，其中 非线性系数的提高幅度最大为65.2%，压敏电压降低幅度最大为38.92%，漏电流密度降低幅度最大为30.51%。薄 膜中晶粒细化，晶格畸变加强，晶界处的界面态密度激增，导致薄膜非线性系数激增，从而有效改善了多组分ZnO 基陶瓷薄膜的压敏电性能。 关键词 薄膜;激光冲击;ZnO基陶瓷薄膜;射频磁控溅射;界面态密度;非线性系数 中图分类号 TB43 文献标识码 A doi: 10.3788/CJL201542.0507001 EffectofLaserShockontheElectricalPropertyofZnO-Based CeramicFilms 1,2 2 1 2 HuaYinqun JiPing ChenRuifang ZhaoShanyue 1SchoolofMechanicalEngineering,JiangsuUniversity,Zhenjiang,Jiangsu 212013,China 2SchoolofMaterialandScienceEngineering,JiangsuUniversity,Zhenjiang,Jiangsu 212013,China Abstract ZnO-basedceramicfilmsaredepositedonSi(111)substratesbyradiofrequencymagnetronsputtering technique,andthefilmsareshockedbytheNd∶YAGlaser.Theeffectoflasershockontheelectricalpropertyof ZnO-basedceramicfilmsisinvestigated.Theresultsshowthatafterlasershockprocessing,thefilms′grainsize isreducedsignificantlyandthesurfacearemoresmoothandcompact.Theelectricalpropertiesoffilmshavebeen improvedinvaryingdegrees.Thenonlinearcoefficientislargestraisedby 65.2%，thebreakdownvoltageislargest dec