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晕开不良修复方法及影响因素的研究.PDF
第 卷 第 期 液晶与显示
32 2
Vol.32 No.2
ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas
年 月 q y p y
2017 2 Feb.2017
文章编号: ( )
1007G2780201702G0110G07
晕开不良修复方法及影响因素的研究
∗
, , , , ,
韩 磊 魏平玉 周春霖 郭 栋 王贺卫 衣洪亮
( , )
合肥鑫晟光电科技有限公司 安徽 合肥 230012
: , 、 . ,
摘要 作为 TFTGLCD常见的晕开不良 目前无成熟 系统的修复方法 本文依据 TFTGLCD晕开不良形成机理 建立修
. ,
复模型并实验验证该模型 通过激光照射裂变法及按压形变法对某款产品晕开不良进行修复验证 裂变法及形变法修
. , , ,
复成功率分别达到 和 通过修复影响因素分析 结果表明 裂变法在照射能量为 时 异物颗粒所在位
30% 70% 4~10 J
μ
; , .
置决定其修复效果 形变法在按压力度为 30~50N时 异物高度及成分成为其修复成功的决定因素 最后本文以上述
, .
理论分析和实验结果为指导 对一款晕开不良产品进行按压修复且成功率达到 79%
: ; ; ; ;
关 键 词 晕开不良 裂变 形变 修复成功率 影响因素
中图分类号: 文献标识码: : /
TN942 A doi10.3788YJYX0110
Particlea reairmethodandeffectactorsanalsis
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