微奈米量测技术光谱式椭圆仪指导老师朱志良博士班级硕奈米二甲.PDFVIP

微奈米量測技術：光譜式橢圓儀 指導老師：朱志良 博士 班級：碩奈米二甲 學生：王禮國 學號：m99r0106 光譜式橢圓儀 一、摘要 現階段鍍製薄膜製程技術運用相當廣泛，不論是在電子或微機電之半導 體產業以及材料科學都被廣泛的使用，薄膜特性更是與其使用壽命與可靠度 息息相關，最直接的影響就是所鍍製薄膜之厚度 ，所以在薄膜各種檢測中， 使用光譜式橢圓儀，以 光學技術進行量測，對其光的偏振態靈敏之特性分析， 可得到檢測之高準確率 。 另外本實驗室已有光譜式橢圓儀，早先學長也做了許多相關的研究，對 於薄膜技術來說，光譜式橢圓儀是不可或缺之檢測設備之一。 二、前言 橢圓偏光量測最早的基本概念是由 1890 年代德國物理學家 Drude ， 利用兩道偏振方向互相垂直的光來量測薄膜的厚度，而在 1945 年， Alexandre Rothen利用 此種不同偏振光來量測樣品厚度及其折射率的方法統 稱為橢圓偏光術