热退火对等离子体增强化学气相沉积SiCOH薄膜结构与性能的影响.PDFVIP

热退火对等离子体增强化学气相沉积SiCOH薄膜结构与性能的影响 谭再上 吴小蒙 范仲勇 丁士进 Effectofthermalannealing on the structure and properties of plasma enhanced chemical vapor de- positedSiCOHfilm TanZai-Shang WuXiao-Meng FanZhong-Yong DingShi-Jin 引用信息Citation: ActaPhysicaSinica,,107701(2015) DOI: 10.7498/aps.64.107701 在线阅读Viewonline: /10.7498/aps.64.107701 当期内容Viewtableofcontents: /CN/Y2015/V64/I10 您可能感兴趣的其他文章 Articles youmaybeinterestedin 衬底位置对化学气相沉积法制备的磷掺杂p型ZnO纳米材料形貌和特性的影响 InfluencesofthesubstratepositiononthemorphologyandcharacterizationofphosphorusdopedZnO nanomaterial 物理学报.2014,63(16):168101 /10.7498/ap