第五讲-薄膜的物理气相沉积-离子束沉积及其他PVD方法.pptVIP

第五讲 薄膜材料的离子镀 及其他 PVD 方法 Preparation of thin films by ion plating and other PVD methods 提 要 离子镀方法的原理和特点 各种各样的离子镀方法 其他制备薄膜的PVD方法 第五讲 小结 薄膜材料还可以使用多种物理气相沉积方法来制备，其中离子镀是一种获得广泛应用的技术 离子镀方法虽然千差万别，但其最主要的特点是其结合了蒸发法和溅射法的优点，并力图提高被沉积物质的气体的离化率、提高轰击薄膜表面的离子的能量和活性 离子镀的优点包括高的致密度、薄膜附着力等 基本概念复习 离子镀方法的基本设备构成与该方法的优点 不同离子镀方法的概况 真空阴极电弧离子镀产生宏观粒子缺陷的原因和避免方法 溅射离子镀方法 三种主要的 PVD 方法的特性比较 思 考 题 列出课堂中介绍的离子镀的种类，并按照各种方法能够实现的沉积物质粒子的离化率对其进行一下排序 列举离子镀方法的优点和其原因 欲使用离子镀方法制备某金属的氮化物薄膜，但发现薄膜中氮化物含量不足,但含有一些氧化物。试分析其原因和改进的措施。 真空阴极电弧离子镀容易产生颗粒飞溅问题.说明现今技术是如何试图过滤这种颗粒的,其原理又是怎样的. 列举离子镀时,薄膜表面处发生的微观过程 说明:使用离子束辅助沉积方法制备薄膜材料的优点 目前，