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5讲场效应管

第五讲 场效应管 第五讲 场效应管 一、结型场效应管(以N沟道为例) 场效应管:是利用输入回路的电场效应来控制输出回路电流的一种半导体器件。 场效应管优点:体积小,重量轻,寿命长等、且输回路的内阻高,噪声低、热稳定性好,抗幅射能力强且比后着耗电省, 场效应管分为:结型和绝缘型两种不同的结构, 2.栅-源电压对导电沟道宽度的控制作用 3.漏-源电压对漏极电流的影响 4.当uGDuGS(off)时,uGS对iD的控制作用 在uGD=uGS-uDS=uGS(0ff),即udsugs-ugs(off)的情况下,当uds为一常量时,对应于确定的ugs,就有确定的 id。此时,可以通过改变ugs来控制id的大小。由于漏极电流受栅-源电压的控制,故称场效应管为电压控制元件。与晶体管用β(=?ic/?ib)来描述动态情况下基极电流对集电极电流的控制作用类似,场效应管可以用gm来描述动态的栅-源电压对电流的控制作用,gm称为低频跨导: gm=?iD/?uGS。 由以上分析可知: (1)在uGD=uGS-uDSUGS(off)的情况下, 即当udsugs-ugs(0ff)(即当g-d间未出现夹断)时,对应于不同的ugs,d-s间等效成不同阻值的电阻。 (2)当uds使ugd=ugs(off)时,d-s之间预夹断。 (3)当uds使ugd《ugs(off)时,id几乎仅决定于ugs,而与uds无关。此时可以把id近似看成ugs控制的电流源。 5.输出特性 (1)可变电阻区(也称非饱和区):图中的虚线为预夹断轨迹,它是各条曲线上使uds=ugs-ugs(off)【即ugd=ugs(0ff)】的点连线而成的,ugs愈大,预夹断时的uds值愈大。预夹断轨迹左边的区域称为可变电阻区,该区域中曲线近似为不同斜率的直线。当ugs确定时,直线的斜率也唯一确定,直线斜率的倒数为d-s间等效电阻的阻值,故称之为可变电阻区。 (2)恒流区(也称饱和区):图中预夹断轨迹右边的区域为恒流区。当uds〉ugs-ugs(off)(即ugd ugs(off))时,各曲线近似为一组横轴的平行线。当uds增大时,id仅略增大。因而可将iD近似为电压ugs控制的电流源,故称该区域为恒流区。 (3)夹断区:当ugs ugs(off)时,导电沟道被夹断,iD约为零,即图中靠近横轴的部分,称为夹断区。一般将使iD等于一个很小的电流(如5μA)时的ugs定义为夹断电压ugs(off)。 另外,当uDS增大到一定程度时,漏极电流会突然增大,管子将被击穿。由于这种击穿是由于栅-漏间耗尽层破坏而引起的,因而若栅-漏击穿电压为U(BR)GD,则漏-源击穿电压U(BR)DS =ugs- U(BR)GD ,所以当ugs增大时漏源击穿电压将增大,如图1.4.5所示。 6.转移特性 二、绝缘栅型场效应管 绝缘栅型场效应管的栅极与源极.栅极与漏极之间均采用sio2绝缘层隔离,因此而得名。又因栅极为金属铝,故又称MOS管。它的栅-源间电阻比结型场效应管大得多,可达1010欧以上,还因为它比结型场效应管温度稳定性好.集成化时工艺简单,而广泛应用于大规模或超大规模集成电路中。 1.N沟道增强型MOS的构成 它以一块低搀杂的p型硅片为衬底,利用扩散工艺制作上两个高搀的N+区,并引出两个电极,分别为源极s和漏极d,半导体之上制作一层sio2绝缘层,再在sio2制作一层金属铝,引出电极做栅极g。通常将衬底和源极连接在一起使用。这样,栅极和衬底各相当于一个极板,中间是绝缘层,形成电容。 2.增强型MOS管uGS,uDS对iD的影响 3.耗尽型MOS管 4.MOS管的特性 5.场效应管的分类 工作在恒流区时g-s、d-s间的电压极性 三、主要参数 1.开启电压UGS(th) (或UT):是增强型MOS管参数, UGS〉UGS(th)开始出现漏极电流。 2.夹断电压UGS(off) (或UP):结型场效应管和耗尽型MOS的参数,当UGS=UGS(off) 时, 漏极电流为零。 3.饱和漏极电流IDSS:结型和耗尽型场效应管, 当UGS=0时所对应的漏极电流。 4.最大漏极电流IDM:管子正常工作时漏极电流的上限值。 5.输入电阻RGS:栅源电压与栅源电流之比,结型场效应管的RGS大于107Ω,绝缘栅型场效应管的RGS大于109Ω。 四、场效应管与晶体管的比较 输入电阻高,不索取电流 只有多子参与导电 噪声系数小 漏源极可以互换 种类比晶体管多, 集成工艺简单,耗电省,工作电源电压范围宽 五、举例说明 测得某放大电路中三个MOS管的三个电极的电位如表1所示,它们的开启电压也在表中。试分析各管的工作状态(夹断区、恒流区、可变电阻区),并填入表内。 已知T1: UGS(th)=4;US=-5 ; UG=1

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