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ICCAD 盛大开幕 华虹宏力芯动亮相.PDF
ICCAD 盛大開幕 華虹宏力“芯”動亮相
(中國,上海—2017 年 11 月17 日)2017 年 11 月16-17 日,“中國集成電路設計業2017 年會暨北京集
成電路産業創新發展高峰論壇”(“2017年ICCAD年會”)在北京稻香湖景酒店舉辦。全球領先的200mm
純晶圓代工廠─華虹半導體有限公司(股份代號:1347.HK)之全資子公司上海華虹宏力半導體製造有限
公司 (“華虹宏力”)精彩亮相。在這場多方矚目的行業盛會上,華虹宏力積極響應 “創新驅動,引
領發展”的大會主題,向客戶及合作夥伴展示了其差異化的特色工藝及最新技術解决方案。
11 月的北京,氣溫已然低迷。原本清冽的稻香湖畔,却因 “2017年 ICCAD 年會”的召開而頗顯熾熱。
本届大會深入探討了集成電路産業面臨的機遇和挑戰。其下,我國集成電路産業正蓬勃發展,華虹宏
力作爲半導體製造企業的代表,將持續發展特色工藝,助力中國 “芯”騰飛。
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華虹宏力以特色引領創新,在嵌入式非易失性存儲器、功率器件、模擬及混合信號、電源管理 IC 、射
頻和微機電系統(MEMS )等晶圓代工領域享有領先地位。全系列的嵌入式存儲器工藝平台組合中,專
爲物聯網打造的0.11 微米超低漏電(ULL )嵌入式閃存平臺,N/P 管靜態漏電1pA/μm ,幷支持RF-CMOS
設計;95 納米單絕緣栅非易失性嵌入式存儲器,包括 eFlash 、eEEPROM 、OTP 工藝平臺,助力客戶在
MCU 應用市場提高競爭力,95 納米的低本高效MTP (Multiple-Time Programming)工藝平臺也在加速
研發中;90 納米eFlash/eEEPROM 工藝平台則將加固公司在智能卡領域的優勢。聚焦功率器件市場,華
虹宏力的深溝槽超級結(Deep Trench Super Junction ,DT-SJ)及場截止型IGBT(Field Stop ,FS IGBT)
工藝平台在業界廣受認可,其中,第三代DT-SJ 實現了超低導通電阻,超高開關速度的特性;1700V IGBT
技術已開發完成,適用在高端工業及新能源汽車的IGBT 技術也指日可待。華虹宏力還可提供全套的電
源管理芯片代工方案,擁有全系列的BCD/CDMOS 和CMOS 模擬工藝平台,涵蓋1微米到0.13 微米,1.8V
到700V。正處於戰略準備階段的第二代BCD700V 工藝平台,將在原先基礎上减少2 層光罩,幷優化DMOS
性能。針對射頻技術,華虹宏力提供矽襯底全系列工藝解决方案,包括RF SOI 、與邏輯工藝兼容的RF
CMOS 、SiGe BiCMOS 以及 IPD 等。0.2 微米射頻SOI 工藝設計套件(PDK)頗受好評,能有效幫助客戶
提高設計效率。研發團隊還在持續研發0.13 微米射頻SOI 等射頻相關技術,以響應智能手機出貨量的
增長及未來5G 移動通信的發展。
大會期間,華虹宏力戰略、市場與發展部門部長胡湘俊以 “智能時代,暢想芯機遇”爲題發表演講:
5G 、人工智能等新興領域已開始發酵,面對“芯”時代,華虹宏力如何走好特色創新之路?演講現場,
高潮迭起,精彩不斷。
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華虹宏力執行副總裁孔蔚然博士在展會現場接受了《半導體製造》專訪。
此次,華虹宏力展台還特別設置了互動遊戲,吸引了大量圍觀。除了有趣的大轉盤遊戲讓參與者叫好
外,“拍照集贊”的創意游戲也刷爆朋友圈,收穫滿滿人氣。
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