PLC在铜电解液循环系统中应用.pdfVIP

2011年 2月第 1期 曹 瑜 ：PLC在铜 电解液循环系统中的应用 ．39． PLC在铜电解液循环系统中的应用 曹日 瑜叫 (云南铜业股份有限公司，云南 昆明 650102) 摘【 要】 叙述了PLC在电解液循环系统高位槽液位、温度、流量控制中的应用，详细介绍了控制原理、 系统结构和网络拓扑结构、重要控制回路以及现场仪表的选型。 [关键词】 铜；电解液循环系统；液位控制；PLC；温度控制；流量控制 [中网分类号]TFS11．044 [文献标识码] B [文章编号】 1672—6103(2011)01—0039—03 0 前言 作为被控量，调节蒸汽总管调节 阀的开度 ，使蒸汽压 铜 电解生产过程 中，电解液必须不断地循环流 力稳定在设定值。当整个电解车间停电或钛换热器 动，目的是补充热量，使电解液温度满足工艺要求， 对应的循环泵停止运行时，需关闭钛换热器的蒸汽 同时进行过滤，滤除其中的悬浮物，使其清洁度满足 阀，故设置了蒸汽人 口阀和循环泵的联锁，循环泵停 生产高质量阴极铜的要求 。电解液循环系统的主要 止运行时相应钛换热器蒸汽阀关闭。图1为带主要 设备有循环液贮槽 、高位槽、供液管道、换热器和过 控制回路的流程图。 滤设备等。提高温度，有利于降低 电解液的粘度，消 除阴极附近铜离子严重贫化现象，使铜在阴极上均 匀析出。但温度过高，添加剂的消耗量增加，电解液 的蒸发损失增大，通常情况下，电解液的温度维持在 63～65℃。实现电解液高位槽液位的自动控制，能 够保证电解液循环速度均匀稳定，提高循环系统的 T作效率 ，避免人为操作不当造成高位槽 电解液被 托空及溢 。为了满足 电解液循环系统的要求，云 铜将PLC用于电解液循环系统高位槽液位 、温度、流 量平衡控制。本文叙述 了控制系统框架的配置、控 图l 带主要控制 回路的流程图 制回路的设置及现场仪表的选型。 1．2 液位控制回路 1 主要控制 回路 1．2．1 高位槽液位控制 电解槽液位稳定，是液位控制的最终 目标 。只 1．1 温度控制回路 有高位槽的液位稳定，才能保持电解槽进液量的稳 电解液温度一般要求控制在63～65℃。电解液 定。高位槽配有6台电解液循环泵，这6台泵均为变 是通过钛换热器加热的，因此每台钛换热器都配有 一 频控制，根据槽面情况决定所开台数。当高位槽液 套单 回路温度控制系统。通过PID控制模块进行 位高于或低于设定值时，通过高位槽液位PID调节 PID运算，调节蒸汽阀开度 ，使加热器 出口电解液温 回路调节变频器的频率，以保证高位槽的液位稳定 度稳定在设定值上。由于蒸汽的压力、流量都不稳 在设定值。由于调节回路的控制对象为6台变频 定，故在蒸汽总管上设置了一个调节阀，以蒸汽压力 泵，交换速度极快，而高位槽的结构造成该液位控制 系统是一个滞后、非 自平衡的系统，因此在PID参数 [作者简介] 曹 瑜 (1974一)，女，T程师 ，在云南铜业股份有限公司 1二程部设计中心从事仪