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离子液体EMIMPF6负载纳米SiOx表面的熔点及结构-IngentaConnect
物理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao)
July Acta Phys. -Chim. Sin. 2011, 27 (7), 1725-1729 1725
[Article]
离子液体[EMIM][PF ]负载纳米SiO 表面的熔点及结构
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刘玉胜1,2 付海英1 唐忠锋1 黄 卫1 吴国忠1,*
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( 中国科学院上海应用物理研究所, 上海210800; 徐州工程学院, 江苏徐州221000)
摘要: 制备了离子液体(1- 乙基-3- 甲基咪唑六氟磷酸[EMIM][PF ])负载量不同的多孔纳米氧化硅(SiO ), 并采
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用差式扫描量热分析(DSC)、X 射线衍射(XRD)、激光Raman 光谱、傅里叶变换红外(FTIR)光谱分析等手段研究
离子液体负载纳米氧化硅后的熔点变化及相行为. 研究表明负载于纳米氧化硅表面的离子液体熔点明显下降,
且负载于不同表面羟基含量的氧化硅表面熔点下降幅度不同. 纯离子液体[EMIM][PF ]熔点为62 °C, 在纳米氧
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化硅表面负载量为35%时熔点为52 °C, 比负载前下降10 °C; 负载于另两种不同羟基含量的纳米氧化硅表面
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后熔点分别下降20 和17 °C. 而同一种纳米氧化硅( 比表面积为640 m ·g )在负载量小于50%时, 熔点下降明
显; 进一步增大负载量, 熔点逐渐趋于本体. XRD 和Raman 光谱分析显示, 离子液体负载于氧化硅表面后其衍
射峰或吸收峰相对强度发生明显改变. 分析负载前后纳米氧化硅的结构变化, 推断离子液体熔点下降的主要原
因是离子液体分子与纳米氧化硅表面之间存在强烈的界面相互作用, 而表面羟基的密度及比表面积是影响负
载后[EMIM][PF ]离子液体相行为的主要因素.
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关键词: 纳米SiO ; 离子液体; 熔点; 相变
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中图分类号: O647
Melting Point and Struct
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