自动光学检测关键技术研究-科技部工程科技推展中心.PDFVIP

行政院國家科學委員會專題研究計畫 成果報告 自動光學檢測關鍵技術研究(第 2年) 研究成果報告(完整版) 計 畫 類 別 ： 個別型 計 畫 編 號 ： NSC 98-2221-E-007-088-MY2 執 行 期 間 ：99年08月01日至 100年10月31日 執 行 單 位 ：國立清華大學動力機械工程學系 計 畫 主 持 人 ： 彭明輝 報 告 附 件 ： 出席國際會議研究心得報告及發表論文 處 理 方 式 ： 本計畫可公開查詢 中 華 民 國 100 年 10月 30 日 自動光學檢測關鍵技術研究 計畫編號：NSC 97-2221-E-007-088 執行期限：98 年 08 月 01 日至 100 年 07 月 31 日 主持人：彭明輝 國立清華大學動力機械工程學系 計畫參與人員：蔡宗達、許從宜、陳芝婷、孫偉峰、劉育鑫、余智偉 國立清華大學動力機械工程學系 一、中文摘要 究，經由對重複性圖形 與缺陷的完整頻譜 分析後，設計特殊的頻域濾波遮罩，此遮 本計畫第一年的目的是要發展出一種 罩的頻域濾波範圍與既 有技術比較，在頻 快速的次像素級影像定位技術，希望藉此 譜上中高頻帶的處理更 為細膩，成功地改 將定位誤差縮小到一個像素以下，從而使 善了既有技術上缺陷區域的邊緣失真及模 得樣版比對法的殘留邊線寬度縮小到一個 糊的問題。此外，為了配合工業上缺陷檢 像素，而且亮度（灰階值）差異盡量小（期 測的高速需求，藉由空間濾波器的設計與 望能控制在 30～40 之間）。如果我們能獲 搭配來產生所需的頻帶 濾波效果，在檢測 得這樣的結果，在很多場合下樣版比對法 能力與速度的需求與平衡之下，完成了一 的結果就可以達到足夠的可靠度，因而省 套低運算量的頻域檢測技術實現方法。 去後繼型態學演算法等計算的麻煩。此 外，即使是在精度與可靠度的要求都很高 關鍵詞：自動光學檢測，影像定位，次像 的情況下，這個改善也 有利於縮小後繼檢 素，缺陷檢測，多通帶濾波器， 測的範圍。本研究以次像素影像定位的技 重複性圖形 術，針對物件進行直接量測的方法，大幅 簡化量測的機構以及對 定位平台重現度的 二、研究目的 要求，而使奈米等級的 定位精度更容易被 實現。利用特徵法進行影像定位，可以分 在半導體與 FPD的 AOI檢測中，被檢 為特徵萃取、特徵比對 以及參數估測等三 測物品可以分為兩大類：（ 1）被檢測物品 個步驟。其中特徵萃取是影像定位精度的 為週期性圖案，譬如 TFT-LCD 等 FPD 產 關鍵所在，既有的次像 素邊跡偵測方法， 業、太陽能產業，以及在半導體產業中， 通常沒有考慮取像系統模糊效應的影響， 諸如記憶體晶圓、移位暫存器（ Shift 因此使用錯誤的步階模 型進行分析，無法