ABS电镀基本工艺.pptVIP

各组分作用 硫酸镍 镀液的主要成分，是镍离子的来源，硫酸镍含量低，镀液分散能力好，镀层结晶细致，易抛光，但阴极电流效率和极限电流密度低，沉积速度慢，硫酸镍含量高，允许使用的电流密度大，沉积速度快，但镀液分散能力稍差。 氯化镍 只有硫酸镍的镀液，通电后镍阳极的表面很易钝化，影响镍阳极的正常溶解，镀液中镍离子含量迅速减少，导致镀液性能恶化。 加入氯离子，能显著改善阳极的溶解性，还能提高镀液的导电率，改善镀液的分散能力，因而氯离子是镀镍液中不可缺少的成分。但氯离子含量不能过高，否则会引起阳极过腐蚀或不规则溶解，产生大量阳极泥，悬浮于镀液中，使镀层粗糙或形成毛刺。 在镀镍时，由于氢离子在阴极上放电，会使镀液的pH值逐渐上升，当pH值过高时，阴极表面附近的氢氧根离子会与金属离子形成氢氧化物夹杂于镀层中，使镀层外观和机械性能恶化。加入硼酸后，硼酸在水溶液中会解离出氢离子，对镀液的pH值起缓冲作用，保持镀液pH值相对稳定。除硼酸外，其他如柠檬酸、醋酸以及它们的碱金属盐类也具有缓冲作用，但以硼酸的缓冲效果最好。 硼酸含量过低：缓冲作用太弱，pH值不稳定; 过高：其溶解度小，在室温时容易析出。 硼酸 成份 工艺范围 操作条件 温度℃ 搅拌 阳极 PH NiSO4 320-350g/L 55±2℃ 空拌 镍饼 3.8-4.3 NiCl2 50-55g/L H3BO3 40-45g/L ?光镍 在半光镍基础液加入光剂，其中含硫量为0.04~0.08%. 镀层高光亮，高整平。 电位比半光镍负100~200mV、封口镍负10~40mV。 厚度不超过总镍层40%； 电镀基本工艺 杨波 2015.9.28 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 目录 三、常规电镀 二、ABS化学镀及前处理 一、塑料电镀概述 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 一、塑料电镀概述 经济效益 充分发挥塑料及 金属的特性 塑料金属化 点击添加文本 二、ABS化学镀及前处理 除油、除蜡 亲水 粗化 中和 钯水 解胶 化学镍 除油粉、除蜡水 H2SO4、整面剂 H2SO4、CrO3 HCl、N2H4·H2O PdCl2、HCl、SnCl2 H2SO4、NaOH NiSO4·6H2O、Na3Cit·2H2O、NaH2PO2·H2O、NH4ClNH3·H2O 1、流程简述 预浸 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 2、除油、除蜡 除去制件表面污垢，促使粗化均匀，提高镀层结合力，保护粗化液。 工艺范围及条件 目的 成份 含量 温度℃ 除油粉 30-35g/L 50±2 除蜡粉 8-10ml/L 50±2 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 3、亲水 成份 整面剂中的表面活性剂组分可以定向均匀地排列在胶件的表面，使表面可以与粗化液充分均匀地接触，从而提高粗化的效率和均匀性。 成份 含量 温度℃ 硫酸 80-100g/L 室温 整面剂 1-2ml/L 机理 及作用 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 4、粗化 成份 一方面使塑料制件表面具有微观粗槽，从而增大了镀层与塑料的接触面，以增加它和金属的粘接力；另一方面使塑料制件表面具有亲水性，以便制件表面进行均匀吸附。 成份 含量 温度℃ CrO3 380-420g/L 65±3 H2SO4 380-420g/L 抑雾剂 适量 作用 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 粗化机理 ?蚀刻作用 电镀级ABS是丙烯腈(A)、丁二烯(B)、苯乙烯(S)组成的三元共聚物，其内部结构树脂相A和S组分是共聚构型，而橡胶相的B组分则以球形分散于S-A构型中。当ABS溶解在铬酸与硫酸混合液中腐蚀粗化时，橡胶相B组分优先被铬酸蚀刻溶解，树脂相A溶解速度相当慢，树脂相S几乎不溶解，致使连续的树脂相表面留下大量均匀的微小孔穴。这些孔穴是金属镀层与塑料表面产生结合力的主要因素。 B B B A-S A-S 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 ?、氧化作用 强酸、强氧化性的粗化剂，还能对塑料表面的高分子结构产生断链的作用，即长链变成短链，同时发生氧化作用。ABS塑料粗化时，在酸性介质条件下，铬酸主要对B 组分起氧化作用，反应如下： 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 点击添加文本 ?使非离子分子极化 ABS塑料表面的AS高聚物中，有许多“挂在碳链上的苯环，在这些苯环上可以通过亲电反应引进某些活性基团。粗化液中高浓度H2SO4在加热的条件下，使苯环引入磺酸基。磺酸基羧基的引入极大的提高了塑料表面的亲水性。 粗化液各组分的作用 1、硫酸 使苯环引入磺酸基，增强亲水性 提供酸性介质 蚀刻作用