负偏压在电弧离子镀沉积TiN_TiCN多层薄膜中的作用.docxVIP

会影响塑性变形及裂纹扩展 。社 ,1986 :96 .李 超. 金 属 学 原 理 M . 哈 尔 滨 : 哈 尔 滨 工 业 大 学 出 版 社 ,1989 :267 .屠世润 ,高 越 ,等. 金相原理与实践 M . 北京 : 机械工业出版 社 ,1990 :71 .(5) 等温试样中会出现“铲形晶界”,是原始粉末颗粒边界析出造成的 。参考文献 :451Wlo dek S T , Kelly M , Alden D A. The St ruct ure of René88D TM . Edited b y Kissinger R D ,Deye D J ,Anto n D L . Superalloys ,负偏压在电弧离子镀沉积 Ti N/ TiCN 多层薄膜中的作用黄美东1 ,2 ,林国强1 ,董闯1 ,孙超2 ,蒋长荣2 ,黄荣芳2 ,闻立时2(11 大连理工大学 三束材料改性国家重点实验室 ,大连 116024 ; 21 中国科学院金属研究所 ,沈阳 110016)摘要 :用电弧离子镀方法在高速钢 、不锈钢与铜基体上沉积合成 TiN/ TiCN 多层薄膜 ,在其他参数不变的情况下只改变负偏压 , 着重考察不同负偏压下薄膜的沉积温度 、膜基结合强度 、显微硬度以及表面形貌等 ,研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的 作用 。结果表明 ,负偏压影响沉积温度 ,负偏压值越大 ,温度越高 ;负偏压值增大 ,表面形貌中的大颗粒数量减少 ,薄膜质量得到 改善 ;负偏压在 - 300V 左右时 ,膜基结合强度与硬度出现对应最佳性能点的峰值 。关键词 :电弧离子镀 ;负偏压 ;多层薄膜中图分类号 :TG174 . 444 文献标识码 :A文章编号 :025426051( 2001) 0720017204Eff ect of Negat ive Bia s on Deposit ion of Ti N/ TiCN Mult ila yer Fil msby Arc Ion Plat ingHUAN G Mei2do ng1 ,2 ,L IN Guo2qiang1 ,DON G Chuang1 ,SU N Chao2 , J IAN G Chang2ro ng2 , HUAN G Ro ng2f ang2 ,W EN Li2shi2(1 . State Key L ab of Material Modificatio n by Elect ro n , Io n ,L aser Beams ,Dalian U niversity of Technology ,Dalian 116024 ,China ;2 . Instit ute of Metal Research ,Academia Sinica ,Shenyang 110016 ,China)Abstract :TiN/ TiCN multilayer films have been deposited o n HSS , SS and Cu subst rates by arc io n plating ( A IP) at different biases wit h ot her parameters kep t co nstant s. In order to analyze t he effect of t he negative bias o n t he adhesio ns st rengt h bet ween multilayer and subst rate ,and t he hardness of t he multilayer have been tested and t he morp hology has also been observed. The result s show t hat negative biases determine t he depositio n temperat ure ,t he lower t he negative bias ,t he higher t he depositio n temperat ure ,t he bet ter t he morp hology wit h less big particles. When t he negative bias is around - 300V t he film has a op timal adhesio n st rengt h and hardness .Key words :arc io n plating ; negative bias ; multilayer films用电弧离子镀技术在高速钢与不锈