低温等离子体技术应用于二氧化钛光催化剂制备与改性 APPLICATION OF LOW TEMPERATURE PLASMA TECHNIQUE IN PREPARATION AND MODIFICATION OF TiO2 PHOTOCATALYST.pdfVIP

第33卷第9期 水处理技术 V01．33No．9 2007年9月 TECHNOLOGYOFWATERTREATMENT Sep．，2007 低温等离子体技术应用于二氧化钛 光催化剂制备与改性 陈琳u，雷乐成· (1．浙江大学环境污染控制技术研究所，浙江杭州310028； 2．杭州电子科技大学环境工程与科学研究所，浙江杭州310018) 摘要：概述了近年来低温等离子体技术制备、改性二氧化钛技术，涉及磁控溅射技术、等离子体增强化学气相沉 积、等离子体金属掺杂及非金属掺杂改性等方面的国内外研究进展，并在此基础上对今后低温等离子体技术应用于 二氧化钛的发展进行了展望。 关键词：低温等离子体；二氧化钛；制备；改性 中图分类号：TQ031 文献标识码：A 文章编号：1000一3770(2007)09．001．05 近年来，将低温等离子体技术引入光催化领域， 商业化应用，在化学、材料、电子、机械、生物医学和 进行低温等离子体TiO：光催化剂的制各和改性已 环境保护等方面取得了很好的经济效益。 有报道，开辟了低温等离子体技术又一应用领域。本 在光催化剂领域，已有不少学者利用低温等离 文重点介绍了低温等离子体技术在光催化材料 子体技术制备、改性出具有优良光催化性质的 TiO：的制备与改性两方面的研究进展。 TiO：，取得了一定的成果。 1等离子体简介 2低温等离子体技术应用于Tio：的制备 等离子体是不同于物质的3态(固态、液态、气 Ti0：薄膜的制备方法主要有溶胶一凝胶法、浸渍 态)的第4种形态，是由大量的电子、离子、自由基 法、水解沉淀法、水热合成法等。然而目前市场上极大 和中性粒子组成的导电性流体。 多数光催化的TiO：是采用溶胶一凝胶法制备，尽管 等离子体分类方法很多，较常见的是按等离子 这种薄膜亦具有良好的光催化特性，但是它的机械耐 体的热力学平衡状态(也称粒子温度)进行分类，可 久性不够，大面积均匀性很差，况且这种工艺还要经 分为热力学平衡状态等离子体也称高温等离子体和 过500～600℃退火，基体材料受到一定限制【。2】。将等 非热力学平衡状态等离子体也称低温等离子体，后 离子技术引入TiO：薄膜的制备，可以在较低温度下 者由于其温度低，易操作而倍受关注，在科学研究和 制备出高质量、结合力好、厚度均匀的TiO：薄膜，提 工业上的应用更为广泛。非热力学平衡状态等离子 高了成膜效率。 体又有热等离子体和冷等离子体之分，前者按所加 2．1磁控溅射技术 电场的频率不同，分为电弧放电、射频(13．5MHz) 磁控溅射技术物理气相沉积(PVD)技术中的 放电、微波(2450MHz)放电等，主要应用于等离子体一大主流技术，被称为低温沉积最有效的方法。磁控 化学合成与分解、溅射制膜、气相沉积等领域，而后 溅射技术是利用磁场控制辉光放电产生的等离子体 者以电晕放电、辉光放电、介质阻挡放电为典型代 来轰击出靶材表面的粒子并使其沉积到基片表面的 表，主要应用于材料表面改性、低温灰化等方面。近 一种技术。图1为直流磁控溅射沉积装置示意图。磁 年来，随着等离子体技术的日益成熟，很多技术已经 控溅射具有以下优点【卅：(1)溅射出来的粒子能量 修改日期：2006．09-29 作者简介：陈琳(1979一)女，讲师，从事高级氧化技术研究：联系电话 联系作者：雷乐成，教授：联系电话：0571E．mail=lclei@zju．edu．cn。 万方数据 万方数据 陈 琳等，低温等离子体技