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低损耗193nm增透膜-物理学报
第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报
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尚淑珍 邵建达 范正修
!）（华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室，上海 #$$#% ）
# ）（中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 #$!’$$ ）
（ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿）
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计算了适用于!)%*+ 增透膜设计与制备的基底与薄膜材料的光学常数，并在此基础上对 !)%*+ 增透膜进行了
设计、制备与性能分析 发现基底材料的吸收损耗对增透膜元件的影响很大，超过一定值时，增透膜元件的设计透
,
过率将达不到理想水平 对单面增透膜的设计与制备结果表明，当吸收损耗降低到一定程度，散射损耗成为不可忽
,
略的因素, 采用热舟蒸发方法实现了性能良好的!)% *+ 减反射膜，剩余反射率在$ -# . 以下,
关键词： ，增透膜，光学损耗，剩余反射率
!)%*+
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用电子束热蒸发，氟化物主要采用热舟蒸发,
!- 引 言 增透膜一般采用单面或双面镀膜，通过降低单
个表面的反射损耗以提高透射率 本文选用高纯度
,
随着激光在半导体工业的应用，要求光学薄膜 的 型熔融石英基底， 高低折射率材
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在短波长范围具有高性能及稳定性 尤其是用于
, 料组合，进行增透膜的设计与制备 首先根据基底与
,
ABC 激光系统的光学薄膜对于激光微加工及光刻技 薄膜材料
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