反应磁控溅射离子镀设备中的关键组件和新技术进展.pdfVIP

第七届广东省真空学会学术研讨会论文集 反应磁控溅射离子镀设备中的关键组件和新技术进展 刘阳 (北京实力源公司) 摘要：本文结合五金钟表和个人电子用品行业的市场要求，对反应磁控溅射离子镀膜设备中的磁控溅射靶、磁控 溅射电源、脉冲偏压电源、离子源及测控装置等关键组件的参数和特性进行详细介绍，对镀膜设备整体设计进行 分析，并就其在五金(含塑胶)、手表眼镜等行业的应用效果进行逐项说明。对真空镀膜行业的设备选型和工艺 开发提供一定参考。 1前言 1．1反应磁控溅射镀膜逐渐取代电弧离子镀成为五金手表等行业主要的镀膜技术。 1．2反应磁控溅射镀膜技术应用中的主要问题和基本对策。 2反应磁控溅射镀膜设备的关键组件 2．1磁控溅射靶：矩型靶、圆柱靶、定向发射柱状靶 定向发射柱状磁控溅射靶的优点： a．工作稳定、不易打火 b．散热效果好、功率大 C．靶材利用率高、降低运行成本 d．维护简便、提高生产效率 ，Ic具有在线清洗功能的磁控溅射靶(专利技术) a．在反应镀膜过程中对靶材进行实时清洗，避免化合物膜层沉积