02学年第学期电浆与薄膜制程技术PlasmaandThinFilm.PDFVIP

102 學年第 1 學期 電漿與薄膜製程技術 Plasma and Thin Film Technology 課程綱要 課程名稱：（中文）電漿與薄膜製程技術 開課單位 半導體專 班 （英文）Plasma and Thin Film Technology 永久課號 ISE5212 授課教師： 張 立 學分數 3 必/選修 選修 開課年級 * 先修科目或先備能力： 晶體學、材料科學導論、物理冶金、熱力學 課程概述與目標： 晶體缺陷有點缺陷、線缺陷(差排) 、面缺陷(疊差、晶界、相界)等。 晶體缺陷理論為材料科學的基礎之一，對了解材料結構本質極為重要；晶體缺 陷亦影響材料性質至鉅，如機械強度、電性、光學性質、腐蝕性質等，因此在 材料工程應用上，亦為關鍵影響因子。 本課程內容主要在學習晶體缺陷種類、形成方式與特性，並了解缺陷對晶體性