等离子喷涂ＴｉＯ〈，２〉纳米涂层的离子注入特性.pdf

等离子喷涂Ti0:纳米涂层的离子注入特性 祝迎春 王忠春 黄民辉 丁传贤 中国科学院上海硅酸盐研究所，上海市定西路1295,200050 摘要 等离子喷涂方法制备的Ti仇纳米涂层表现出良好的离子注入特性.利用电化学方法Li’离子被可 逆的注入和抽出TO2i 纳米涂层。结果表明在电位扫描范围为1.0^--1.5VvsSCE、电位扫描速率为50MY/s 时Li离子注入电流密度最大值为0.8.A/cW，每周注入电量为11.5MC/cm注入和抽出的电2比为889/. 循环伏安试验表明该涂层具有良好的电化学称定性. 关锐词 等离子喷涂 TiO2纳米涂层 离子注入 引言 半导体纳米涂层是材料研究领域的一个热点，许多方法被用来制备纳米涂层，如溶 胶一凝胶法111、气相沉积法2[[1截射法[31、电化学沉积[41等方法。被研究的半导体材料主 要有W0631[ ，MoO3161，Fe203n[，Ni0s[1，Ir029[1，CdSe[101等，但研究最多的是Ti02aTi0:半 导体材料表现出许多独特的光学和电学性能如透过可见光而吸收紫外光、导带带边的可调 性、非线性光学特性、掺杂状态下的导电性，因而被应用在光催化[111、光电转换1121、介 电效应、光学非线性、电变色1131等领域。本文利用真空等离子喷涂方法制备了氧化钦纳 米涂层，对其离子注入特性进行了研究.并对离子注入机理进行了讨论。 2.实验方法 2.1 涂层的制备 通过钦酸丁酣控制水解制备氧化铁纳米粉体，使用SulzerMetcoAG(瑞士)公司生产 的A-2000真空等离子喷涂设备喷涂氧化钦纳米涂层。喷涂舱压力为50mbar,喷涂功率为 MR.涂层被沉积到ITO导电玻璃上，导电玻璃的电阻为2052/0. 2.2 电化学试验 电化学试验是在三电极系统中进行的。选用饱和甘汞电极为参比电极，铂电极为对 电极，沉积在导电玻璃上的氧化钦涂层为工作电极，1MLiCl氏碳酸丙烯醋溶液为电解质 溶液。电化学设备使用ZF-3恒电位仪、ZF-4信号发生器以及 ZF-10数据采集系统， 并采用该设备的微软系统进行数据分析。 2.3 涂层的结构分析 表面轮廓分析仪用来测定涂层的厚度，扫描电镜用来分析涂层的表面形貌，透射电 镜用来侧定纳米涂层的显微结构，用X一射线衍射分析涂层的晶体结构。 .101 · 3.结果与讨论 等离子喷涂制备的氧化认纳米涂层为-$u多二L性‘材料，构成涂层的颗粒大小为10- I00nm，涂层厚度为 l.4lun,涂层是以锐认矿招万刘191时含有少量金红石相.关于氧化钦纳 米涂层的详细结构将另文发表。 、 ， ， . 金 刁 ︹ 翻 铡 像 浇 李 垢 一 ， 曰 已 ︸ 0 0 叼 ﹃ 侧 瑞 两 拍 茶 履 、 吕 w e J J . . . . l 1 1 闷 门 色 2 0 ，石 一几刀 .0 弓 0 〔1 电极 电位 曰 、* 电扭R电位 曰v.} 图1二氧化钦纳米涂层Li离子注入的循环伏安曲线 图1为止氧化钦纳米涂层离子注入的循环伏安曲线.电位扫描范围为 一l.5-1.0Vvs SCE。电解质溶液为IMLiC10;碳酸丙烯ffao图1(a)和图1(b)的电位扫描速率分别为 20mV/s和50mV/se阴极电流对应于Li的注入过程而闭极电流对应于Li、的抽出过程。图 I(a)表明随着循环伏安扫描周期的塔加，二氧化钦纳米涂层的循环伏安曲线趋于稳定，当 扫描九周之后其循环伏安曲线基本稳定