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薄膜材料与技术-4 课件
薄膜材料与技术
(4 )
李美成
2006秋季学期
1
1
第四章 真空蒸发镀膜法
4.1 真空蒸发原理
4.2 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
4.3 蒸发源的类型
4.4 合金及化合物的蒸发
4.5 膜厚和沉积速率的测量与监控
薄膜材料与技术
薄膜材料与技术 2
2
在真空室中,加热源材料,使原子或分
在真空室中, ,使原子或分
子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射
子从表面气化逸出,形成 ,入射
到固体表面,形成固态薄膜
到固体表面,形成固态薄膜
物理过程:加热→蒸发→热蒸发法
物理过程:加热→蒸发→热蒸发法
电子束、激光加热→蒸发低蒸气压物质
电子束、激光加热→蒸发 物质
共蒸发和顺序蒸发→成分复杂和多层膜
共蒸发和顺序蒸发→ 和多层膜
反应蒸发法→化合物薄膜,抑制成分偏
反应蒸发法→化合物薄膜,抑制
离
薄膜材料与技术
薄膜材料与技术 3
3
4.1 真空蒸发原理
真空蒸发特点:
真空蒸发特点:
设备简单、操作容易;
设备简单、操作容易;
薄膜纯度高、质量好、厚度可控;
薄膜纯度高、质量好、厚度可控;
速率快、效率高、可用掩模获得清晰图形;
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薄膜生长机理比较单纯
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真空蒸发缺点:
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不易获得结晶结构的薄膜;
不易获得结晶结构的薄膜;
薄膜与基片的附着力小;
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工艺重复性不够好;
工艺重复性不够好;
薄膜材料与技术
薄膜材料与技术 4
4
主要部分有:
主要部分有:
真空室,为蒸发提
真空室,为蒸发提
供必要的真空
供必要的真空
蒸发源和蒸发加热
蒸发源和蒸发加热
器,放置蒸发材料
器,放置蒸发材料
并对其进行加热
并对其进行加热
基板,用于接收蒸
基板,用于接收蒸
发物质并在其表面
发物质并在其表面
形成固体蒸发薄膜
形成固体蒸发薄膜
基板加热器
基
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