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镀膜设备用AD590型温度计应用设计 摘要 随着信息领域各种技术的发展，在数据方面的技术也取得了很大的进步，数字化控制无疑是人们追求的目标之一，它给人带来的方便也是不可否定的。采集数据的信息化是目前社会的主流发展方向，各种领域都用到了数据采集，数据采集系统已经在测控领域中占到了统治地位。本设计主要介绍了一个用于PVD镀膜设备用基于ADC0809芯片的温度采集系统，从立题学习到设计，以及各连接电路各部分都有详细的描述。它利用温度传感器AD590检测环境的温度，将信号传给模数转换器，将模拟信号转换成数字信号，下级接外围电路，然后将信号传输到显示系统进行显示，显示准确度高，不易误读，分辨率高，特别是在测量小的温度变化时比较准确，它主要用于对测温比较准确的场所。AD590与ADC0809结合实现最简温度检测采集系统，该系统结构简单，抗干扰能力强，适合于恶劣环境下进行现场温度测量，有广泛的应用前景，同时也适应了生产和发展的要求。 关键字：数字化、 测控、模数转换器、抗干扰能力 引 言 随着人们生活水平的不断提高,数字化控制无疑是人们追求的目标之一，它所给人带来的方便也是不可否定的，其中数字温度计就是一个典型的例子，但人们对它的要求越来越高，要为现代人工作、科研、生活、提供更好的更方便的设施就需要从数单片机技术入手，一切向着数字化控制，智能化控制方向发展。在精确与快捷当道的现代社会，人们在生产过程中会越来越多的关注与精密而实用的仪器，在数据方面的技术也取得了很大的进步，采集数据的信息化是目前社会的主流发展方向，各种领域都用到了数据采集，数据采集系统已经在测控领域中占到了统治地位。例如，温度计，就有从之前的传统温度计比如水银温度计逐渐向数字转变的趋势，它具有读数方便，测温准确，其输出温度采用数字显示等优势，数字温度计已经普及到我们生活，工作，科研，各个领域，已经成为一种比较成熟的技术，本文主要是介绍8.5代液晶面板厂内的PVD镀膜设备外部用温度计应用的设计。 PVD镀膜设备PVD(Physical Vapor Deposition)，指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以是某些有特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等）的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能！ PVD基本方法：真空蒸发、溅射 、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀 　　物理气相沉积技术 PVD 介绍 　　物理气相沉积具有金属汽化的特点，与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数 PVD 方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。 　　Ionbond 阴极电弧 PVD 涂层技术在 20 世纪 70 年代后期由前苏联发明，如今，绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。 　　工艺温度 　　典型的 PVD 涂层加工温度在 250 — 450 ℃之间，但在有些情况下依据应用领域和涂层的质量， PVD 涂层温度可低于 70 或高于 600 进行涂层。2、 总体设计方案 2.1 数字温度计设计方案论证 由于本设计是用于PVD镀膜设备的测温电路，可以使用热敏电阻之类的器件利用其感温效应，在将随被测温度变化的电压或电流采集过来，进行A/D转换；即首先在温度采集电路中由AD590模拟式温度传感器将温度信号转化为模拟信号，再利用功放将其信号进行放大传输到ADC0809芯片中进行A/D转换。最后以得到的数字信号来控制FPGA的编程，将得到的信号传送到在显示电路上显示，在这里是将信号传送到QII板中进行显示. 2.2 总体设计框图 首先要考虑的问题是温度的采集问题，通过查阅相关的资料及老师的讲解，我对这个温度采集电路有一定的了解了，在自己的脑海中已经形成了一个大体的框架。温度传感器采用AD590，模数转换器采用ADC0809，用QII板的数码管以串口传送数据实现温度显示。数字温度计电路设计总体设计方框图如下图所示： 2.2.1 温度传感器 AD590 如下图示，为温度传感器 AD590的实物图和电路符号图 AD590是美国模拟器件公司生产的单片集成两端感温电流源。它的主要特性如下： ①流过器件的电流（mA）等于器件所处环境的热力学温度（开尔文）度数，即： mA/K。 流过器件（AD590）的电流，单位为mA；T—热力学温度，单位为K。 ②AD590的测温范围为-55℃～+150℃。 ③AD590的电源电压范围为4V～30V。电源电压可在4V~6V范围变化，电流 变化1mA，相当于温度变化1K。AD590可以承受44V正向电压和20V反向电压，因而器件反接也不会被损坏。 ④输出电阻为710MW。 ⑤精度高。AD59