多孔网栅在中能闪光X光照相中的性能验证.pdfVIP

第 2期 高 能 量 密 度 物 理 NO．2 2014年 6月 HIGH ENERGY DENSITY PHYSICS Jun．，2014 多孑L网栅在 中能闪光 X光照相 中的性能验证 刘文杰，胡美娥，刘 军 (中国工程物理研究院流体物理研究所 101室，四川绵阳 621999) 摘 要 ：虽然降散射 网栅在 医用低 能 (小于0．1MeV)X射线成像和 高能 (6～ 2OMeV)闪光照相领域已经得到广泛的应用，但是该器件在 中能 (0．1～6MeV)闪光 照相领域的应用尚未见报道。研制 了一种专用于中能闪光照相的多孔 网栅膜 片，并 利用0．45MeV商用x光机设计实验考察 了多孔 网栅膜片降散射性能。结果表 明， 含网栅膜片的中能闪光照相 系统散直比明显低于无网栅膜片的情况。同时蒙特卡洛 方法得到的结果也证 实 了以上结论 。 关键词：中能闪光 X光照相 ；多孔 网栅 ；降散射 1 引 言 中能(O．1～6MeV)和高能(6～2OMeV)闪光 x光照相技术是 国防科研 中的重要测试手段之 一 ， 而散射是 x射线辐射成像过程 中制约图像质量的关键因素。在流体动力学实验中，如何有效 地降低或扣除中高能x射线在穿透动态爆轰加载实验客体及前后保护器件(分别用于保护光源和 成像系统)时产生的散射成分已经成为闪光 x光照相诊断中一项亟待解决的重要课题r1]。 现有常用的降散射方法 (如采用陡坡准直器、台阶准直器和准直屏蔽环以及增大后保护器件到 成像平面的距离)存在增大光源模糊和后期图像处理不确定度等固有弊端 ]。因此 ，本研究在中能 闪光照相系统的后保护器件与成像系统之间加装多孔网栅膜片，以期在大幅度降低散射 的同时避 免传统降散射方法的缺陷。 2 多孔网栅设计 与医用低能 (小于0．1MeV)X光成像所用的降散射 网栅多采用轻质金属材料 (如铝)和高分子材料 (如亚克 力)不同口]，中高能闪光 X光照相用多孔 网栅一般采用 吸收系数较大的高原子序数金属材料 (如钨)l4]。中国工 程物理研究院流体物理研究所近期成功试制了单片多孔 网栅膜片 (图 1)，网栅单孔直径为 1．1mm，心心间距为 1．5mm，膜 片厚为2mm，直径为 78．5mm，钨孔阵列为 边长52．1mm的正方形 ，网栅材料的密度为 17．1g／cm。。 图145 0keV 闪光照相用降散射 网栅照片 * 作者简介 ：刘文杰 (1982一)，男 ，博士，副研究员 ，从事闪光照相实验技术研究。 Email：wjliu@mail．ustc．edu．cn 48 高 能 量 密 度 物 理 2O14年 6月 3 中能降散射实验布局 多孔网栅膜片降散射实验采用的中能闪光 x光照相光源为瑞典产 ScandiflashModel450S型 软管 x光机 ]，其技术参数为 ：打靶 电子束能量为 0．45MeV，束流峰值为 1OkA，脉冲宽度为 25ns，焦斑尺寸为2．5mm，靶正前方 1m处照射量为 6．19~C／kg(24mR)。通过蒙特卡洛模拟可 知 450S闪光机发出的X光峰值能量和加权平均能量分别为 0．049和 0．109MeV，光程 以光轴为 峰值沿径向单调递减，在半径 8cm 的范围内衰减仅为 2 。因此，在设计网栅降散射实验的照相 布局时可近似认为光程分布均匀，初始 x光能量为 0．1MeV。 在进行网栅膜片降散射实验布局 的设计时需考虑两个要求 ：(1)在无 网栅条件下散射信号最 大化 ；(2)最深穿透点对应成像平面投影点的照射量超过底片灵敏度 。现有商用 20．32×25．40cm 的医用 x光底片(KodakXBT一1)的灵敏度约为0．1~C／kg。对于源像距为D 的照相布局，x射线 到达探测平面的照射量 X。满足公式