PCVDTiN等涂层的抗高温氧化性研究.pdfVIP

. l l l e e e e PCVD一丁iN等涂层的抗高温氧化性 l l e s 青岛化工学院等离子体表云往长研究所 (266042 | 彭红瑞 石玉龙 涂广又 赵 程 1 | | 摘要:本文研究了月PCD法所制条为Ti、，二从、及risi\硬贡涂层竺抗 高沮 次化性及丁、 1 it层在双氧水介质中的抗氧化性。结朵表呢，下;、呀，TiSiN涂层在空气千的抗高温软化性可达 1 00℃以上，TiN涂层可达600C。在双讯水介 玉二 ?CVD-TiN涂层仍具有较强的抗城化能7. 1 且优于PVD-TiN,涂层 关键词:等离子体化学气相沉积(PC,D)T「:,.几从NTiSiN，涂层.坑7化性 1.前言 等离子体化学气相沉积 (PCVD)TiN类埂质涂层技术具有沉积温度低 (600 ℃)和绕镀性好等特点，用这种方法在高这钢二具和模具上沉积TEN类硬质涂层三 得到较为广泛的研究和应用’创但其pf的汉是刊用TiiN类涂层的耐磨性，提葛工件 的使用寿命。而对PCVD-TiN类涂层的抗荡一盆氧化性却研究得比较