H,2O分子吸附在NiO(100)表面的分析研究.pdfVIP

中文摘要 NiO作为一种典型的过渡金属氧化物，其结构简单，拥有极佳的化学稳定性、光学 性质、电学及磁学特性，因此，在催化、光电解、电子器件修饰、防腐、传感器制造等 领域具有重要应用。近年来，随着化学工业中的异相催化的迅猛发展，原子或分子与固 相表面相互作用动力学引起l了化学家和物理学家的极大的兴趣，表面吸附作为异相催化 的关键环节越来越显现出其广阔的发展前景。所以，理论上研究NiO固体及表面吸附反 应将有助于深入了解其体相及表面反应的特殊结构、催化活性及其成键机理，对于促进 过渡金属氧化物的理论化学研究具有重要的科学意义。本论文着重探讨了H O分子吸附 2 在NiO(100)表面的各种性质及NiO(100)表面的空位缺陷的特性变化。 虽然，NiO拥有各种优良性能，但在理论上却没有得到准确的描述，各种计算软件 得出的结果与实验数据都有较大的差距，这一直困扰着物理学家们。最近，GGA+U方 法的提出为NiO的理论研究带来了希望， 这一方法在GGA方法的基础上把电子强关联 项添加上去， 修正后得到了与实验吻合的结果。CO，NO等小分子在NiO表