拓扑绝缘体Bi_2Se_3单晶体的研究进展_吕莉精选.pdfVIP

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2018-01-15 发布于贵州
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拓扑绝缘体Bi_2Se_3单晶体的研究进展_吕莉精选

／拓扑绝缘体ＢｉＳｅ单晶体的研究进展吕莉等 · · 　２３７拓扑绝缘体ＢｉＳｅ单晶体的研究进展＊２３，，，，吕莉张敏杨立芹羊新胜赵勇　　　（，，）西南交通大学超导与新能源研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室成都６１００３１，摘要拓扑绝缘体是当前凝聚态物理和材料科学研究的热门课题其独特的电子态结构使其在自旋电子器件　　和量子计算机等领域拥有巨大的应用潜力。阐述了拓扑绝缘体ＢｉＳｅ单晶的制备方法 ﹑输运性质以及表面调控效２３；，应等方面的最近进展总结了各种化学掺杂方法对ＢｉＳｅ费米能级的影响同时展望了今后ＢｉＳｅ的研究发展方２３２３向。关键词拓扑绝缘体晶体生长ＢｉＳｅ　　　　２３中图分类号：文献标识码：Ｏ４Ａ　　　　　ＲｅｃｅｎｔＡｄｖａｎｃｅｉｎＴｏｏｌｏｉｃａｌＩｎｓｕｌａｔｏｒＢｉＳｅＢｕｌｋＣｒｓｔａｌ　　　　　　ｐｇ２３ｙ，，，，ＬＵＬｉＺＨＡＮＧＭｉｎＹＡＮＧＬｉｉｎＹＡＮＧＸｉｎｓｈｅｎＺＨＡＯＹｏｎ　　　ｑ　ｇ　ｇ（（），ＫｅＬａｂｏｒａｔｏｒｏｆＡｄｖａｎｃｅｄＴｅｃｈｎｏｌｏｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＭｉｎｉｓｔｒｏｆＥｄｕｃａｔｉｏｎＳｕｅｒｃｏｎｄｕｃｔｉｖｉｔａｎｄＮｅｗＥｎｅｒｙ