高能等离子体辅助CVD法新型纳米碳膜的制备及分析.pdfVIP

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高能等离子体辅助CVD法新型纳米碳膜的制备及分析.pdf

第55卷第1期2006年1月 物理学报 V01.55,No1,January,2006 I000—329012006/55(01),0351—06ACTAPHYSICASINICA Cllill @2006Phys.Soc. 高能等离子体辅助CVD法新型 纳米碳膜的制备及分析” 杨武保”+ 范松华” 戈敏2’ 张谷令” 沈曾民2’ 杨思泽” I)(中国石油大学机电学院,北京102副9) 2)(北京化工大学碳纤维研究所,北京100029) 3j(中国科学院暂理研究所,北京IGoOSO) (2005午3月9日收到;2005年4月14日收到修改稿) 氛为CFL.,巩=10%的工艺条件下得到r~种硬度高、导电性能良好、可能具有碳链结构的新型碳膜.工艺研究结果 表明,衬底材料对制备该新型纳米碳膜具有关键作用,离子能量、工作压力及气氛等工艺因素也具有重要作用.原 子力显微镜分析结果表明,该薄膜晶粒尺寸小于100nm,薄膜光滑、致密、均匀拉曼光谱分析显示,该薄膜的拉曼光 纳米力学探针测得该纳米碳膜的显微硬度为21.38GPa,体弹性模量为420,65GPa. 关键词:高能等离子体,CVD法,纳米碳膜,衬底材料 PACC:5275R,8115H,6800 应用前景,以纳米碳管、巴基球为主构成的薄膜,其 1.引 言 场发射、储氢等性能得到大量研究”w 少量碳原子结合时,能够形成碳环或者碳链.有 以碳原子为主形成的薄膜,其中的碳原子可以 关碳链的形成、结构、性能等的理论分析计算最近已 经有一些报道,在一定的环境中,碳链被认为是形成 以sp,sp:,sp2“(0n1),sp3等多种方式杂化.因 为杂化方式可以不同,不同杂化方式碳原子的含量 富勒稀、纳米碳管等的过渡态.但是,关于碳链薄膜 可以不同,可以掺杂其他各种元素,不同杂化方式碳 的报道未曾出现“5”. 的性能又存在巨大差异等;因此,碳基薄膜种类繁 制备各种碳膜的方法大体可以分为物理气相沉 多,性能多样,用途广泛,一直是材料科学研究的热 积和化学气相沉积.磁控溅射、磁过滤电弧放电沉 点领域之一如以sP3杂化碳原子构成的金刚石膜, 积、离子束溅射、脉冲高能量密度溅射等属于物理气 具有硬度最高、弹性模量最大、在红外到紫外的电磁 相沉积方法.化学气相沉积方法有射频辉光放电辅 波段内均不存在明显电磁吸收、热导率最高、禁带宽 度大等诸多优点,在CVD金刚石膜出现以后,一直 的沉积技术,使用不同的工艺条件时,能够获得结 是一个热点研究领域,在机械、电子、光学、传热、半 构、组成、性能不同的碳膜“”…. 导体等领域已经或者即将发挥越来越重要的作 本文采用了一种新型的等离子体技术、高能辉 用”11;以sp3杂化碳原子为骨架、混合有spl杂化光等离子体辅助CVD的方法进行了碳膜沉积研究. 碳原子的类金刚石膜,具有硬度高、摩擦系数小、光 研究发现,在一定的衬底及工艺条件下,能够获得一 学折射系数低等特性,在摩擦磨损、切削、光学等方 种新型碳膜,该碳膜具有良好导电性能,同时硬度非 面具有重要应用o”…;以sp2”方式杂化的碳原子形 常高;这与过去已报道的绝缘性好、硬度高的类金刚 成的纳米碳管、巴基球,在纳米技术等领域具有广阔 石膜,或者具有良好导电性能、但是硬度低的纳米碳

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